特許

J-GLOBAL ID：200903016851763383

投影露光装置

発明者： 石川 弘美
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (2件)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-127893
公開番号（公開出願番号）：特開2004-335640
出願日： 2003年05月06日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：

【課題】投影露光装置装置において、感光材料へ投影する2次元パターンの消光比を向上させる。【解決手段】DMD80で空間光変調された光の2次元パターンを像側テレセントリックな第1結像光学系51を通して結像させる際の結像倍率を倍率調節光学系53によって調節する。その後、光源ユニット60から発せられDMD照射光学系70を通して入射された光をDMD80で空間光変調し、DMD80により空間変調された2次元パターンを第1結像光学系51、倍率調節光学系53、マイクロレンズアレイ55、アパーチャアレイ59、および第2結像光学系52を通して感光材料150上に投影しこの感光材料150に露光する。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

入射された光を所定の制御信号に応じて変調する画素部を2次元状に多数配列してなり、前記多数の画素部により前記光を空間光変調する空間光変調手段と、 前記空間光変調手段で空間光変調された光の2次元パターンを結像させる像側テレセントリックな結像光学系と、 前記結像光学系により結像される前記2次元パターンの結像面近傍に配設された、前記結像光学系を通過した前記各画素部に対応する各光をそれぞれ通す個別のマイクロレンズを2次元状に配置してなるマイクロレンズアレイとを備え、 前記2次元パターンを感光材料上に投影して該感光材料に前記2次元パターンを露光する投影露光装置において、 前記結像光学系と前記マイクロレンズアレイとの間に、前記2次元パターンを前記結像光学系で結像させる際の結像倍率を調節する倍率調節光学系を備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L21/027 ,  G02B13/24 ,  G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 529 ,  G02B13/24 ,  G03F7/20 501

Fターム (33件)：

2H087KA21 ,  2H087LA01 ,  2H087LA30 ,  2H087NA01 ,  2H087NA02 ,  2H087NA09 ,  2H087PA02 ,  2H087PA15 ,  2H087PA17 ,  2H087PB02 ,  2H087PB15 ,  2H087QA02 ,  2H087QA03 ,  2H087QA06 ,  2H087QA07 ,  2H087QA17 ,  2H087QA19 ,  2H087QA21 ,  2H087QA26 ,  2H087QA34 ,  2H087QA42 ,  2H087QA45 ,  2H087RA42 ,  2H097BA10 ,  2H097BB01 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  5F046BA07 ,  5F046BA10 ,  5F046CB02 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25 ,  5F046DA13

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 画像表示装置及び画素像縮小方法及び画素像縮小光学構造
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-289971   出願人：株式会社リコー
• 投影露光装置、露光方法、半導体の製造方法及び投影光学系の調整方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-164374   出願人：株式会社ニコン