特許

J-GLOBAL ID：200903016934101234

プラズマ処理装置及びプラズマ処理停止方法

発明者： 小川 浩 ,  東 寛史
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 小原 肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-066370
公開番号（公開出願番号）：特開2003-264180
出願日： 2002年03月12日
公開日（公表日）： 2003年09月19日
要約：

【要約】【課題】 整合器の可変コンデンサ等のプリセット値が適当でないなど、高周波電力が何等かの原因で瞬間的且つ急激に落ち込んだ場合には対応することができず、被処理体のパターン欠陥が発生し、大量のロット不良を生じさせる。【解決手段】 本発明のプラズマ処理装置10は、第1の高周波電力を上部電極12に印加した後、第2の高周波電力を下部電極13に印加した際に、第1の高周波電力の電力値の所定値までの落ち込みを監視する監視手段20を設けたものである。

請求項（抜粋）：

処理容器内で互いに平行に配置された第1、第2の電極を有し、これらの電極に第1、第2の整合器を介して第1、第2の高周波電力を印加してプラズマを発生させて被処理体にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、上記第1の高周波電力を上記第1の電極に印加した後、上記第2の高周波電力を上記第2の電極に印加した際に、上記第1の高周波電力または第2の高周波電力の少なくともいずれか一方の電力値の所定値までの落ち込みを監視する監視手段を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ,  C23C 16/505

FI (2件)：

C23C 16/505 ,  H01L 21/302 101 B

Fターム (12件)：

4K030FA03 ,  4K030HA13 ,  4K030KA41 ,  4K030KA43 ,  5F004AA06 ,  5F004BA04 ,  5F004BA09 ,  5F004BB18 ,  5F004BD03 ,  5F004CA03 ,  5F004CA09 ,  5F004CB05

引用特許：

審査官引用 (1件)

• プラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-045177   出願人：株式会社日立製作所, 日立テクノエンジニアリング株式会社