特許
J-GLOBAL ID：200903017022497850

触媒体及びこれを用いた空気調和機

発明者：
原 圭太

原 圭太 について

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山本 義朗

山本 義朗 について

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藤岡 一志

藤岡 一志 について

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川田 倫久

川田 倫久 について

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工藤 淳

工藤 淳 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (2件)： 大前 要 ,  板東 義文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-077574
公開番号（公開出願番号）：特開2007-289934
出願日： 2007年03月23日
公開日（公表日）： 2007年11月08日
要約：
【課題】長期間にわたって一酸化炭素等の有害物質を除去可能な触媒体及びこれを用いた空気調和機を提供する。【解決手段】基体と、基体上に形成された吸湿性を有する吸湿性コート層と、吸湿性コート層に保持され、気体中に含まれる反応目的分子と他の物質との反応を触媒するPt、Au、Rh、Ag、Pd、Ir等の触媒物質と、を有する触媒体。好ましくは、前記吸湿性コート層として、平均細孔径が50nm以下の多孔質シリカを用いる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基体と、 前記基体上に形成された吸湿性を有する吸湿性コート層と、 前記吸湿性コート層に保持された触媒物質と、 を有する触媒体。
IPC (3件)：
B01J 23/42 ,  B01D 53/86 ,  B01J 35/10
FI (3件)：
B01J23/42 M ,  B01D53/36 Z ,  B01J35/10 301G
Fターム (70件)：
4D048AA01 ,  4D048AA02 ,  4D048AA03 ,  4D048AA05 ,  4D048AA08 ,  4D048AA13 ,  4D048AA19 ,  4D048AA20 ,  4D048AC10 ,  4D048BA03X ,  4D048BA06X ,  4D048BA10Y ,  4D048BA30X ,  4D048BA31Y ,  4D048BA33Y ,  4D048BA34Y ,  4D048BA39X ,  4D048BA41X ,  4D048BB01 ,  4D048BB02 ,  4D048BB17 ,  4D048BB20 ,  4D048CC40 ,  4D048DA03 ,  4D048DA11 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA01A ,  4G169BA01B ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BA13A ,  4G169BA17 ,  4G169BC32A ,  4G169BC33A ,  4G169BC71A ,  4G169BC72A ,  4G169BC74A ,  4G169BC75A ,  4G169BC75B ,  4G169CA01 ,  4G169CA11 ,  4G169CA12 ,  4G169CA14 ,  4G169CA17 ,  4G169DA06 ,  4G169EA01X ,  4G169EA01Y ,  4G169EA18 ,  4G169EB05 ,  4G169EB18X ,  4G169EB18Y ,  4G169EC03X ,  4G169EC03Y ,  4G169EC04Y ,  4G169EC11X ,  4G169EC11Y ,  4G169EC12X ,  4G169EC12Y ,  4G169EC13X ,  4G169EC13Y ,  4G169EC14X ,  4G169EC14Y ,  4G169EC15X ,  4G169EC15Y ,  4G169EC28 ,  4G169FA03 ,  4G169FB15 ,  4G169FB19 ,  4G169FC08
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (7件)
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