特許

J-GLOBAL ID：200903017094729373

改良された界面を有する層のプラズマ化学蒸着法

発明者： ロバート ロバートソン ,  マーク ミカエル コルラック ,  アンジェラ ティー. リー ,  タカコ タケハラ ,  グオフ ジェフ フェング ,  ロバート コノリー ,  カム ロウ ,  ダン メイダン
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-137629
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142416
出願日： 1994年06月20日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、表面とその表面上に堆積される層との間の界面を改善する方法に関する。【構成】 その表面は、対象物の表面であってもよいし、又は対象物上に堆積された層の表面であってもよい。その表面は、その表面に悪影響を及ぼさず、且つその上に層を堆積しない不活性なガスのプラズマにさらされる。それから、その表面は、堆積ガスを分解せしめ、その表面上に層を堆積せしめる堆積ガスのプラズマにさらされる。

請求項（抜粋）：

表面とその上にプラズマ化学蒸着により堆積される(deposited)層との間に良好な界面を提供して前記表面と前記層との間を良好に接着(adhesion)する方法に於いて、前記表面を、第1のガスであって該表面と化学的に反応せず且つその上に該ガスの物質を備える層を堆積しない第1のガスのプラズマにさらす(subjecting)工程と、該工程の後、前記表面を、反応して該表面上に層を堆積する堆積ガスのプラズマにさらす工程とを有し、前記表面が前記第1のガスのプラズマから前記堆積ガスのプラズマまで実質的に連続的にガスプラズマにさらされる、方法。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (2件)：

H01L 21/302 C ,  H01L 21/31 C

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-343414
  
• 特開平4-372118
  
• 特開昭63-215081
  
• 光起電力装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-326391   出願人：三洋電機株式会社