フォトアレイ検出器を備える回帰較正による回転補正器型分光エリプソメータシステム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大垣孝
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-538525
公開番号（公開出願番号）：特表2000-509830
出願日： 1998年02月02日
公開日（公表日）： 2000年08月02日
要約：

【要約】多数の波長を同時検出するフォトアレイ(DE’s)を含む材料システムの回転補正器型分光検査システムである。この材料システムの回転補正器型分光検査システムは、望ましいことであるが、較正パラメータのパラメータ化を含んでいる数学的回帰に基づく技術によって較正される。較正は、較正パラメータで可能である。較正は、この材料システムの回転補正器型分光検査システムを“材料システム有り”或いは“ストレイト・スルー”の状態にすることによって得られる、一組の二次元データのセットを利用して可能である。

請求項（抜粋）：

電磁放射の多色ビーム(PPCLB)を発生するビーム発生源(LS)と、偏光子(P)と、材料システム支持用のステージ(STG)と、検光子(A)と、分散光学系(DO)と、多数の検出素子(DE’s)を含む少なくとも1つの検出システム(DET)とを具える、材料システムの回転補正器型分光検査システムにおいて、さらに、(材料システム(MS)支持用の前記ステージ(STG)の前段と、材料システム(MS)支持用の前記ステージ(STG)の後段と、材料システム(MS)支持用の前記ステージ(STG)の前段および後段と)からなる位置群から選ばれる位置に位置決めされる少なくとも1個の補正器(C),(C’),(C”)を具えており、前記材料システムの回転補正器型分光検査システムを使用して、材料システム支持用の前記ステージ(STG)に置かれた材料システム(MS)を検査するとき、前記検光子(A)及び偏光子(P)を本質的に位置固定させておいて、前記電磁放射の多色ビーム(PPCLB)のビーム発生源(LS)から発生させた電磁放射の多色ビーム(PPCLB)を前記偏光子(P)および前記補正器(C),(C’),(C”)に通しながら、前記少なくとも1個の補正器(C),(C’),(C”)のうちの少なくとも1個を連続回転させ、また、前記電磁放射の多色ビームを、前記材料システム(MS)との間で相互作用させ、前記検光子(A)に通し、および前記分散光学系(DO)との間で相互作用させて前記少なくとも1個の検出システム中の対応する多数の検出素子(DE’s)に同時に入射させるように構成してあることを特徴とする、材料システムの回転補正器型分光検査システム。

IPC (2件)：

G01N 21/21 , G01N 21/27

FI (2件)：

G01N 21/21 Z , G01N 21/27 F

引用特許：

審査官引用 (5件)

測光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-314023 出願人：株式会社島津製作所
分光型エリプソメータ
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-313485 出願人：株式会社島津製作所
特開昭60-237331

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