特許
J-GLOBAL ID：200903017146355655

磁気記録媒体の製造方法

発明者：
島田 隆

島田 隆 について


出願人/特許権者：
富士電機株式会社

富士電機株式会社 について


代理人 (1件)： 山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-221189
公開番号（公開出願番号）：特開平8-087746
出願日： 1994年09月16日
公開日（公表日）： 1996年04月02日
要約：
【要約】【目的】磁気ヘッドの極低安定走行浮上量に対応可能で、かつ、耐磨耗性,磁気特性に優れた磁気記録媒体の製造方法を提供する。【構成】非磁性基板上に無電解メッキ法で非磁性金属膜が形成された非磁性基体表面にテクスチャー加工が施され、その上に、スパッタ法により非磁性金属下地層,薄膜磁性層,保護膜が順次成膜積層され、その上に液体潤滑剤を塗布した潤滑層が形成される磁気記録媒体の製造方法において、前記テクスチャー加工を、研削液に研磨砥粒を分散させたスラリーを用いたスラリーテクスチャー加工を多段階に分けて行い、かつ、段階を追って使用するスラリーの砥粒径を小さくしていく加工方法とする。
請求項（抜粋）：
非磁性基板上に無電解メッキ法で非磁性金属膜が形成された非磁性基体上にテクスチャー加工が施され、その上にスパッタ法により非磁性金属下地層,薄膜磁性層,保護膜が順次成膜積層され、その上に液体潤滑剤を塗布した潤滑層が形成される磁気記録媒体の製造方法において、前記テクスチャー加工が研削液に研磨砥粒を分散させたスラリーを用いたスラリーテクスチャー加工を多段階に分けて施す方法であり、かつ、段階を追って使用するスラリーの研磨砥粒径が小さくされることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2件)：
G11B 5/84 ,  B24B 37/00
引用特許：
審査官引用 (4件)
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