特許

J-GLOBAL ID：200903017182636490

超純水製造装置

発明者： 野村 有宏 ,  木暮 雅彦
出願人/特許権者： 野村マイクロ・サイエンス株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-343755
公開番号（公開出願番号）：特開平10-180243
出願日： 1996年12月24日
公開日（公表日）： 1998年07月07日
要約：

【要約】【課題】超純水中の溶存酸素濃度の増加をほぼ防止し、溶存酸素濃度が1μg/l以下の超純水を容易かつ経済的に生成可能な超純水製造装置を提供すること。【解決手段】 被処理水に対し真空脱気を実行する不活性ガス添加型脱気装置と、前記真空脱気が実行された被処理水に紫外線を照射する紫外線照射装置と、前記紫外線が照射された被処理水に含まれる酸化剤を還元する還元装置と、前記酸化剤を還元した被処理水からイオン成分を除去するイオン交換装置とを具備した超純水製造装置による。

請求項（抜粋）：

被処理水に対し真空脱気を実行する不活性ガス添加型脱気装置と、前記真空脱気が実行された被処理水に紫外線を照射する紫外線照射装置と、前記紫外線が照射された被処理水に含まれる酸化剤を還元する還元装置と、前記酸化剤を還元した被処理水からイオン成分を除去するイオン交換装置とを具備したことを特徴とする超純水製造装置。

IPC (5件)：

C02F 1/20 ,  B01D 19/00 101 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/70

FI (5件)：

C02F 1/20 A ,  B01D 19/00 101 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/42 A ,  C02F 1/70 Z

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 超純水の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-187660   出願人：日立プラント建設株式会社
• 特開平4-190803
  
• 特開平1-164488
  
• 特開平4-190803
  
• 特開平1-164488