特許
J-GLOBAL ID：200903017191491225

多孔質基体、ゼオライト複合膜及びその製造方法

発明者：
富田 俊弘

富田 俊弘 について

, 
中村 真二

中村 真二 について


出願人/特許権者：
日本碍子株式会社

日本碍子株式会社 について


代理人 (1件)： 渡邉 一平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-057453
公開番号（公開出願番号）：特開2001-247308
出願日： 2000年03月02日
公開日（公表日）： 2001年09月11日
要約：
【要約】【課題】基体表面にゼオライト膜を成膜するにあたり、ゼオライト膜のクラックを防止することができる多孔質基体、ゼオライト複合膜及びその製造方法を提供する。【解決手段】 TPA(テトラプロピルアンモニウムイオン)/SiO2のモル比が、0.015以上0.08以下であり、且つ完全に結晶化したゼオライト又は、TPA(テトラプロピルアンモニウムイオン)/SiO2のモル比が、0.02以上0.12以下であり、且つ結晶化途上のゼオライトからなる多孔質基体である。ゼオライト膜と、ゼオライト膜と同一組成あるいは類似組成を有するゼオライトから構成される多孔質基体とからなり、多孔質基体上にゼオライト膜が成膜されてなるゼオライト複合膜である。成膜するゼオライト膜と同一組成あるいは類似組成のゼオライトで、かつゼオライト膜と同じ鋳型剤を含有する多孔質基体を用い、多孔質基体上にゼオライト膜を被覆した後仮焼して、ゼオライト膜と多孔質基体から同時に鋳型剤を除去することにより、多孔質基体上にゼオライト膜が成膜されたゼオライト複合膜の製造方法である。
請求項（抜粋）：
TPA(テトラプロピルアンモニウムイオン)/SiO2のモル比が、0.015以上0.08以下であり、且つ完全に結晶化したゼオライトからなることを特徴とする多孔質基体。
IPC (3件)：
C01B 39/04 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/02
FI (3件)：
C01B 39/04 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/02
Fターム (23件)：
4D006GA25 ,  4D006MA03 ,  4D006MA06 ,  4D006MB16 ,  4D006MC03 ,  4D006NA39 ,  4D006NA62 ,  4D006NA63 ,  4D006NA64 ,  4G073BA63 ,  4G073BA69 ,  4G073BD18 ,  4G073CZ01 ,  4G073CZ49 ,  4G073DZ04 ,  4G073FA09 ,  4G073FB30 ,  4G073FC17 ,  4G073FC19 ,  4G073FD23 ,  4G073FD30 ,  4G073GA01 ,  4G073UA06
引用特許：
審査官引用 (3件)

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