特許

J-GLOBAL ID：200903017333800158

イオンミーリング試料作製装置および試料ホルダ

発明者： 吉 岡 忠 則 ,  渡 邊 榮 一
出願人/特許権者： 日本電子エンジニアリング株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-311318
公開番号（公開出願番号）：特開2005-077359
出願日： 2003年09月03日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：

【課題】 清浄な所望断面を有する試料を作製することができるイオンミーリング試料作製装置および試料ホルダを提供する。【解決手段】 イオンビームIBの一部のイオンビームI1は、試料6やマスク8を照射せずに試料端部6aの脇を通過する。その試料端部6aの脇を通過したイオンビームI1の殆どは、試料ホルダ貫通孔5a,xy移動機構貫通孔4a,ステージ貫通孔3aを通って、ステージ3の裏側へ貫通する。このため、イオンビームI1によって試料ホルダ5がエッチングされることはなく、試料ホルダ5を形成する物質mがイオンエッチングによって四方に飛び散ることはない。この結果、イオンビームエッチングによって現れた試料断面Sに前記物質mが付着することは防止され、清浄な試料断面Sを走査電子顕微鏡などで観察することができる。【選択図】 図5

請求項（抜粋）：

真空チャンバ内に配置され、試料にイオンビームを照射するためのイオンビーム照射手段と、 前記真空チャンバ内に配置され、前記試料を保持する試料ホルダと を備えたイオンミーリング試料作製装置であって、 前記試料ホルダは、前記イオンビーム照射手段からのイオンビームが進入するイオンビーム進入孔を有している ことを特徴とするイオンミーリング試料作製装置。

IPC (1件)：

G01N1/28

FI (2件)：

G01N1/28 F ,  G01N1/28 W

Fターム (6件)：

2G052DA33 ,  2G052EC14 ,  2G052EC18 ,  2G052EC22 ,  2G052GA34 ,  2G052GA35

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特許第3263920号公報
  

審査官引用 (3件)

• 試料作成装置および試料ホルダ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-073683   出願人：日本電子株式会社
• 特許第3263920号
  
• 特許第3263920号