試料作成装置および試料ホルダ

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田中隆秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-073683
公開番号（公開出願番号）：特開平11-271192
出願日： 1998年03月23日
公開日（公表日）： 1999年10月05日
要約：

【要約】【課題】ビーム遮断部材のビームを受けていない部分と前記ビームを受けていた部分との取り替えを容易に行えるようにすること。【解決手段】試料Sの加工面S1に接近して配置され、前記加工面S1上方から照射されるイオンビームの一部を遮断して前記加工面S1にイオンビームが照射されない線状のビーム非照射領域を形成する線状のビーム遮断部材51と、前記試料加工面S1に入射するイオンビームを横断して移動する前記線状のビーム遮断部材51を送り出す送出用部材56および前記送り出された線状のビーム遮断部材51を巻き取る巻取用部材57であって、ベース52に回転可能に支持された前記送出用部材56および前記巻取用部材57と、前記ベース52上に回動可能に支持された前記送出用部材56および巻取用部材57を所定の回動位置に保持する回動位置保持手段58とから構成される試料作成装置。

請求項（抜粋）：

下記の要件を備えたことを特徴とする試料作成装置、(A01)試料ホルダに保持された試料の加工面が真空に保持された試料加工室内の試料作成位置に配置されるように前記試料ホルダを保持する試料ステージ、(A02)前記試料加工面の上方に配置されて、前記試料加工面にイオンビームを入射させるイオン照射装置、(A03)前記試料加工面に入射するイオンビームを横断し且つ前記試料加工面に接近して配置され、前記イオンビームの一部を遮断して前記試料加工面にイオンビームが照射されない線状のビーム非照射領域を形成する線状のビーム遮断部材、(A04)ベースに回転可能に支持されて、前記イオンビームが通過する複数のビーム通過部を外周部に有し、前記複数のビーム通過部を前記ビーム遮断部材が横断する状態で前記ビーム遮断部材を支持するとともに、回転時に前記複数の各ビーム通過部が順次前記イオンビームを横断する位置に移動する遮断部材支持部材、(A05)前記ベース上に回転可能に支持された前記遮断部材支持部材を所定の回転位置に保持する回転位置保持手段。

IPC (2件)：

G01N 1/28 , G01N 1/32

FI (4件)：

G01N 1/28 F , G01N 1/32 B , G01N 1/28 G , G01N 1/28 W

引用特許：

出願人引用 (3件)

電子顕微鏡用試料作成装置および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-016812 出願人：日本電子株式会社, 日本電子データム株式会社
試料保持装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-258050 出願人：信越化学工業株式会社
特開平3-284840

審査官引用 (1件)

試料保持装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-258050 出願人：信越化学工業株式会社

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