特許
J-GLOBAL ID:200903017336997114

被覆部材の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-121134
公開番号(公開出願番号):特開平11-310876
出願日: 1998年04月30日
公開日(公表日): 1999年11月09日
要約:
【要約】【課題】基材と被覆膜との密着性が高くかつ表面が平滑な被覆膜をもつ部材の製造方法を提供する。【解決手段】基材の被覆すべき表面に予め希ガスに属するガス及び水素の一種類以上を含む凹凸形成ガスと窒素、炭素及び酸素の一種類以上を含む凹凸促進ガスとの混合ガスを用いてイオン衝撃し、平均高さが10〜100nmの範囲、平均の幅が10〜300nmの範囲にある凸部を形成して凹凸面とする。この凹凸面によりその上に形成される被覆膜が強固に固定される。凹凸促進ガスを併用することにより凹凸面の形成が容易となり安定化する。
請求項(抜粋):
基材の被覆すべき表面に予め希ガス及び水素の一種類以上を含む凹凸形成ガスと窒素、炭素及び酸素の一種類以上を含む凹凸促進ガスとの混合ガスを用いてイオン衝撃し、平均高さが10〜100nmの範囲、平均の幅が10〜300nmの範囲にある凸部を形成して凹凸面とする第1工程と、該凹凸面上に被覆膜を形成する第2工程と、を有することを特徴とする被覆部材の製造方法。
IPC (5件):
C23C 16/02 ,  C23C 14/02 ,  C23C 16/50 ,  C23C 26/00 ,  C23F 4/00
FI (5件):
C23C 16/02 ,  C23C 14/02 Z ,  C23C 16/50 ,  C23C 26/00 L ,  C23F 4/00 A
引用特許:
審査官引用 (1件)

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