特許
J-GLOBAL ID：200903017356658499

テンプレートヒストグラム生成方法およびパターン検査装置

発明者：
寺内 俊介

寺内 俊介 について

, 
藤本 博己

藤本 博己 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 松阪 正弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-216712
公開番号（公開出願番号）：特開2006-038543
出願日： 2004年07月26日
公開日（公表日）： 2006年02月09日
要約：
【課題】半導体基板上のパターンの検査を精度よく行うことができるテンプレートヒストグラムを生成する。【解決手段】パターン検査装置のテンプレートヒストグラム取得部52では、準備された複数の参照画像のそれぞれから検査領域の画素値の参照ヒストグラムが生成される。続いて、各画素値における複数の参照ヒストグラムの複数の頻度に対して所定の演算が行われ、各画素値に対応するとともに複数の頻度の最小値以上最大値以下の1つの頻度が求められることにより、検査領域に対する1つのテンプレートヒストグラムが取得される。半導体基板のパターンの検査において、テンプレートヒストグラムは被検査画像中の検査領域における画素値のヒストグラムと比較され、これにより、半導体基板上のパターンの検査が精度よく行われる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
半導体基板上のパターンの検査において、被検査画像中の所定の検査領域における画素値のヒストグラムと比較されるテンプレートヒストグラムを生成するテンプレートヒストグラム生成方法であって、 少なくとも1つの半導体基板を撮像して複数の参照画像を準備する工程と、 前記複数の参照画像のそれぞれから検査領域の画素値の参照ヒストグラムを生成する工程と、 各画素値における複数の参照ヒストグラムの複数の頻度に対して所定の演算を行い、前記各画素値に対応する1つの頻度であって前記複数の頻度の最小値以上最大値以下のものを求めることにより、前記検査領域に対する1つのテンプレートヒストグラムを取得するテンプレートヒストグラム取得工程と、 を備えることを特徴とするテンプレートヒストグラム生成方法。
IPC (3件)：
G01N 21/956 ,  G06T 1/00 ,  H01L 21/66
FI (3件)：
G01N21/956 A ,  G06T1/00 305D ,  H01L21/66 J
Fターム (29件)：
2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051BA01 ,  2G051BB03 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051DA07 ,  2G051DA11 ,  2G051EA08 ,  2G051EB01 ,  2G051EC02 ,  2G051ED04 ,  2G051ED08 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DB07 ,  4M106DH31 ,  4M106DH57 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC22 ,  5B057DC39
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (3件)

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