特許
J-GLOBAL ID:200903017367961630
一次粒子径がサブミクロンの生成物の製造方法、該方法によって製造された生成物、及び該方法に用いる装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
河宮 治
, 石野 正弘
, 稲葉 和久
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-514594
公開番号(公開出願番号):特表2006-512264
出願日: 2003年06月25日
公開日(公表日): 2006年04月13日
要約:
本発明は、金属酸化物、金属含水酸化物、又は金属水酸化物の一次粒子径がサブミクロンの生成物を製造する方法であって、前記生成物の製造方法は、反応容器充填用固体物質を反応容器に導入するステップと、金属含有前駆体を前記反応容器に導入するステップと、両親媒性溶媒を前記反応容器に導入するステップと、超臨界溶媒を前記反応容器に導入するステップとを含む。これらのステップによって、前記金属含有前駆体と前記両親媒性溶媒とを接触させ、その結果として前記反応容器充填用固体物質の近傍に前記生成物を生成させる。本発明によれば、50°C〜100°Cの間の可能な限りの低い温度で、同時に100-200barの圧力でアナターゼ相のTiO2を生成する驚くべき可能性を提供することができる。また、本発明は、上記方法によって生成されるアナターゼTiO2等の生成物、及び、上記方法を利用する装置に関する。
請求項(抜粋):
金属酸化物、金属含水酸化物、又は金属水酸化物の一次粒子径がサブミクロンの生成物を製造する方法であって、前記生成物の製造方法は、
反応容器充填用固体物質を反応容器に導入するステップと、
金属含有前駆体を前記反応容器に導入するステップと、
両親媒性溶媒を前記反応容器に導入するステップと、
超臨界溶媒を前記反応容器に導入するステップと
を含み、
前記金属含有前駆体と前記両親媒性溶媒とを接触させ、その結果として前記反応容器充填用固体物質の近傍に前記生成物を生成することを特徴とする製造方法。
IPC (4件):
C01B 13/32
, C01B 13/36
, C01F 7/02
, C01G 23/053
FI (4件):
C01B13/32
, C01B13/36
, C01F7/02 A
, C01G23/053
Fターム (37件):
4G042DB03
, 4G042DB11
, 4G042DB12
, 4G042DB15
, 4G042DB21
, 4G042DB22
, 4G042DB24
, 4G042DB35
, 4G042DC03
, 4G042DD04
, 4G042DE04
, 4G042DE06
, 4G042DE09
, 4G042DE14
, 4G047CA02
, 4G047CB05
, 4G047CB06
, 4G047CC03
, 4G047CD03
, 4G047CD04
, 4G047CD07
, 4G076AA02
, 4G076AA10
, 4G076AB04
, 4G076AB13
, 4G076BA14
, 4G076BB02
, 4G076BB06
, 4G076BB08
, 4G076BC08
, 4G076BD02
, 4G076BD04
, 4G076BD10
, 4G076BH01
, 4G076CA05
, 4G076CA34
, 4G076CA40
引用特許:
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