特許
J-GLOBAL ID：200903017409465221

熱反応炉のシールパージ方法及び装置

発明者：
テオドルス ヘー.エム.オースターラーケン

テオドルス ヘー.エム.オースターラーケン について

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フランク フーセン

フランク フーセン について

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ヘルベルト テルホルスト

ヘルベルト テルホルスト について

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ジャック ハー.ファン プッテン

ジャック ハー.ファン プッテン について


出願人/特許権者：
エーエスエム インターナショナル エヌ.ヴェー.

エーエスエム インターナショナル エヌ.ヴェー. について


代理人 (3件)： 三枝 英二 ,  掛樋 悠路 ,  眞下 晋一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-012809
公開番号（公開出願番号）：特開2005-244190
出願日： 2005年01月20日
公開日（公表日）： 2005年09月08日
要約：
【課題】パージガスによる反応ガスの希薄化の不均一による膜厚のばらつきを改善できるシールパージの方法及び装置を提供する。【解決手段】パージガスは、シールを通して反応チャンバー12に拡散することができるので、重力と浮力の影響により、パージガスの分子量がシールおよびガス排気管24を含む反応チャンバー12の部分にパージガスを残存させるように、パージガスは、プロセスガス並びにシールおよガス排気管24の位置に基づいて選択される。好適には、ガス排気管24は、パージガスによるプロセスガスの希薄化を最小にするように、反応チャンバー12の同じ端にパージガスを保持し、それによって、パージガスが処理結果に不利益に影響することを防いでいる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
反応チャンバーにプロセスガスを供給するためのガス供給装置を備える前記反応チャンバーを有する熱反応炉と、前記チャンバーからガスを排気するための、前記反応チャンバーの下流端に配置されたガス排気管とを提供するステップであって、互いに接触する反応炉部品が、前記下流端近くに配置されたメカニカルシールを形成するステップと、 前記反応炉部品間のインターフェイスを横切って前記反応チャンバーの内部に前記パージガスを供給するステップと、 前記プロセスガスの濃度を決定するステップと、 前記下流端が前記反応チャンバーの下端にある時は、前記プロセスガスより高い濃度のパージガスが選択され、前記下流端が前記反応チャンバーの上端にある時は、前記プロセスガスより低い濃度のパージガスが選択されるように前記パージガスを選択するステップとを備えるメカニカルシールパージ方法。
IPC (1件)：
H01L21/31
FI (1件)：
H01L21/31 E
Fターム (10件)：
5F045AA20 ,  5F045AC11 ,  5F045AC15 ,  5F045AC16 ,  5F045AF01 ,  5F045BB01 ,  5F045DP19 ,  5F045DP28 ,  5F045DQ05 ,  5F045EB12
引用特許：
審査官引用 (3件)

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