特許
J-GLOBAL ID：200903017417833868
パルス発生回路
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福山 正博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-152583
公開番号（公開出願番号）：特開平8-330923
出願日： 1995年05月26日
公開日（公表日）： 1996年12月13日
要約：
【要約】【目的】調整なしで高精度なデューティ比50%のパルスの発生が可能なパルス発生回路を提供する。【構成】パルス幅が制御信号により制御されるパルス発生手段から、入力パルスに応答して同相及び逆相の2つのパルスを得、これら2つのパルスをそれぞれ積分して得られる2つの積分出力の差成分信号を得、得られた差成分信号を上記制御信号として上記パルス発生手段に帰還出力することにより、50%デューティ比パルスを得ている。
請求項（抜粋）：
パルス幅が制御信号により制御され、入力パルスに応答して同相及び逆相の相補パルスを出力するパルス発生手段と、該パルス発生手段からの同相パルスと逆相パルスをそれぞれ積分して得られる2つの積分出力の差成分を前記制御信号として前記パルス発生手段に帰還出力する誤差検出手段と、を備え、前記パルス発生手段から50%デューティ比パルスを取り出すことを特徴とするパルス発生回路。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
審査官引用 (2件)
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特開平2-131615
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波形整形回路
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-146291
出願人：三洋電機株式会社
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