特許

J-GLOBAL ID：200903017442351819

スパッタリング用高純度金属Mo焼結ターゲットの製造に原料粉末として用いるのに適した高純度金属Mo粗粒粉末

発明者： 茨木 正之 ,  岩本 賢治
出願人/特許権者： 日本新金属株式会社
代理人 (2件)： 富田 和夫 ,  鴨井 久太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-130803
公開番号（公開出願番号）：特開2005-314715
出願日： 2004年04月27日
公開日（公表日）： 2005年11月10日
要約：

【課題】 スパッタリング用高純度金属Mo焼結ターゲットの製造に原料粉末として用いるのに適した高純度金属Mo粗粒粉末を提供する。【解決手段】 高純度金属Mo粗粒粉末が、粗粒化添加成分であるNa(ナトリウム)および均粒化添加成分であるK(カリウム)の含有量がそれぞれ10ppm以下に低減され、かつ99.99質量%以上の高純度を有すると共に、フィッシャー法による粒度測定で5.5〜7.5μmの平均粒径およびJIS・R1626に基づくBET値で0.05〜0.2m2/gの比表面積を有する。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

粗粒化添加成分であるNa(ナトリウム)および均粒化添加成分であるK(カリウム)の含有量がそれぞれ10ppm以下に低減され、かつ99.99質量%以上の高純度を有すると共に、フィッシャー法による粒度測定で5.5〜7.5μmの平均粒径およびJIS・R1626に基づくBET値で0.05〜0.2m2/gの比表面積を有することを特徴とする、スパッタリング用高純度金属Mo焼結ターゲットの製造に原料粉末として用いるのに適した高純度金属Mo粗粒粉末。

IPC (3件)：

B22F1/00 ,  C22C1/04 ,  C22C27/04

FI (3件)：

B22F1/00 P ,  C22C1/04 D ,  C22C27/04 102

Fターム (28件)：

4K017AA01 ,  4K017BA04 ,  4K017CA06 ,  4K017DA01 ,  4K017EJ01 ,  4K017EK05 ,  4K017FB03 ,  4K017FB06 ,  4K018AA21 ,  4K018BA09 ,  4K018BB04 ,  4K018BC01 ,  4K018BC09 ,  4K018CA02 ,  4K018CA19 ,  4K018CA23 ,  4K018EA11 ,  4K018FA01 ,  4K018KA29 ,  4K018KA63 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA11 ,  4K029DC03 ,  4K029DC09 ,  4K029DC24 ,  4K029DC34 ,  4K029DC39

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開平2-141507号公報
  
• 高融点金属粉末材料の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-386061   出願人：日立金属株式会社

審査官引用 (1件)

• 高融点金属粉末材料の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-386061   出願人：日立金属株式会社

引用文献：

出願人引用 (1件)

• 化学大辞典3, 19760910, 縮刷版第19刷, 313

審査官引用 (1件)

• 化学大辞典3, 19760910, 縮刷版第19刷, 313