特許
J-GLOBAL ID：200903017464386713
光学補償フィルムの製造方法および製造装置、光学補償フィルム、偏光板、液晶表示装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-073745
公開番号（公開出願番号）：特開2009-229706
出願日： 2008年03月21日
公開日（公表日）： 2009年10月08日
要約：
【課題】光学補償フィルムの耐久性や耐傷性とフィルムの光学特性を独立して制御できる光学補償フィルムの製造方法および製造装置を提供することを目的とする。【解決手段】 表面に配向層が形成され、連続的に搬送される透明支持体4c上に、液晶性化合物を含む液晶層塗布液を配向層上に塗布する液晶層塗布工程10と、液晶層を乾燥する液晶層乾燥工程11と、乾燥工程の乾燥温度より低い温度に冷却した状態で、液晶層を硬膜する冷却硬膜工程と、冷却硬膜工程の冷却温度より高い温度に加熱した状態で、配向層を硬膜する加熱硬膜工程と、を有することを特徴とする光学補償フィルムの製造方法である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
表面に配向層が形成され、連続的に搬送される透明支持体上に、液晶性化合物を含む液晶層塗布液を該配向層上に塗布する液晶層塗布工程と、
前記液晶層を乾燥する液晶層乾燥工程と、
前記乾燥工程の乾燥温度より低い温度に冷却した状態で、前記液晶層を硬膜する冷却硬膜工程と、
前記冷却硬膜工程の冷却温度より高い温度に加熱した状態で、前記配向層を硬膜する加熱硬膜工程と、を有することを特徴とする光学補償フィルムの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (28件)：
2H149AA02
, 2H149AB05
, 2H149AB12
, 2H149AB13
, 2H149AB15
, 2H149BA02
, 2H149DA02
, 2H149DB03
, 2H149DB13
, 2H149EA02
, 2H149FA02Y
, 2H149FA03Z
, 2H149FA34Y
, 2H149FA58Y
, 2H149FA63
, 2H191FA30X
, 2H191FA30Z
, 2H191FB02
, 2H191FB03
, 2H191FB04
, 2H191FC10
, 2H191FC32
, 2H191FC33
, 2H191GA08
, 2H191LA02
, 2H191LA09
, 2H191LA13
, 2H191PA82
