特許
J-GLOBAL ID:200903017470842321

酢酸の選択的製造方法およびこの目的に適する触媒

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 社本 一夫 (外6名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-507513
公開番号(公開出願番号):特表2000-515158
出願日: 1997年07月16日
公開日(公表日): 2000年11月14日
要約:
【要約】本発明は、エタン、エチレンまたはそれらの混合物と酸素とを含むガス供給物から上昇させた温度で酢酸を選択的に製造する方法に関し、当該方法は、このガス供給物を、酸素と組み合わせて、a:b:c:dのグラム原子比の元素Mo,Pd、XおよびY:すなわち、MoaPdbXcYd (I)を含む触媒と接触させることを含む。ここで、記号XおよびYは次の意味を有する:XはCr,Mn,Nb,Ta,Ti,V,Teおよび/またはWからなる群から選択される一種以上の元素であり、特にNb,VおよびWであり;YはB,A1,Ga,In,Pt,Zn,Cd,Bi,Ce,Co,Cu,Rh,Ir,Au,Ag,Fe,Ru,Os,K,Rb,Cs,Mg,Ca,Sr,Ba,Zr,Hf,Ni,P,Pb,Sb,Si,Sn,TlおよびUからなる群から選択される一種以上の元素であり、特にCa,SbおよびLiである。本発明は、酸素と組み合わせて、a:b:c:dのグラム原子比の元素Mo,Pd,XおよびYを含む、酢酸の選択的製造用触媒も提供する。
請求項(抜粋):
エタン、エチレンまたはそれらの混合物と酸素とを含むガス供給物から上昇させた温度で酢酸を選択的に製造する方法であって、当該方法は、このガス供給物を、酸素と組み合わせて、グラム原子比a:b:c:dの元素Mo,Pd、XおよびY:すなわち、 MoaPdbXcYd (I)を含む触媒と接触させることを含み、ここで、記号XおよびYは次の意味を有する:XはCr,Mn,Nb,Ta,Ti,V,TeおよびWからなる群から選択される一種以上の元素であり;YはB,Al,Ga,In,Pt,Zn,Cd,Bi,Ce,Co,Rh,Ir,Cu,Ag,Au,Fe,Ru,Os,K,Rb,Cs,Mg,Ca,Sr,Ba,Zr,Hf,Ni,P,Pb,Sb,Si,Sn,TlおよびUからなる群から選択される一種以上の元素であり;添え字a,b,cおよびdは対応する元素のグラム原子比であり、ここで、a=1;b>0;c>0;およびd=0.05〜2である。
IPC (7件):
C07C 51/215 ,  B01J 23/38 ,  B01J 23/652 ,  B01J 23/70 ,  C07C 51/25 ,  C07C 53/08 ,  C07B 61/00 300
FI (7件):
C07C 51/215 ,  B01J 23/38 Z ,  B01J 23/70 Z ,  C07C 51/25 ,  C07C 53/08 ,  C07B 61/00 300 ,  B01J 23/64 103 Z
引用特許:
出願人引用 (4件)
  • 酢酸の製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-065161   出願人:昭和電工株式会社
  • 特開昭54-057488
  • 特公昭46-006763
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審査官引用 (4件)
  • 酢酸の製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-065161   出願人:昭和電工株式会社
  • 特開昭54-057488
  • 特公昭46-006763
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