特許
J-GLOBAL ID：200903017481848925
不要膜除去方法及びその装置並びに位相シフトマスクブランクス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-165290
公開番号（公開出願番号）：特開平7-020623
出願日： 1993年07月05日
公開日（公表日）： 1995年01月24日
要約：
【要約】【目的】 比較的簡単な方法により不要膜のみを溶解除去できる不要膜除去方法及びその装置並びにこの不要膜除去方法を用いた位相シフトマスクブランクス製造方法を提供する。【構成】 基板11の表面周縁部1a及び基板11の側面部1bをカバー部材3の下部カバー部32で覆ってこれらとカバー部材3との間に間隙5を形成し、かつ、上部カバー部31の気体導入口31aから気体6を導入して間隙5内に基板中心部方向から外周部方向に向かう気流を形成し、不要膜除去液噴出ノズル4からカバー部材3の外側に供給された不要膜除去液41が基板中心部に向かって侵入するのを阻止しつつ、スピンチャック2により基板11及びカバー部材3を一体に回転させることにより、間隙5内に不要膜除去液41を流通させて不要膜を溶解除去する。
請求項（抜粋）：
基板の少なくとも表面周縁部に形成された不要膜を除去する不要膜除去方法であって、少なくとも基板表面周縁部近傍をカバー部材で覆って該カバー部材と基板表面周縁部との間に間隙を形成し、かつ、前記カバー部材の外側から供給された不要膜除去液が少なくとも前記基板表面周縁の不要膜に至ることができる液体流路を形成するとともに、前記間隙内に基板中心部方向から外周部方向に向かう気流を形成して前記カバー部材の外側から供給された不要膜除去液が基板中心部に向かって侵入するのを阻止し、かつ、前記基板とカバー部材とを一体にして回転することにより、前記除去液が少なくとも基板表面周縁部の不要膜に供給されるようにして該不要膜を溶解除去するようにしたことを特徴とする不要膜除去方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
