特許

J-GLOBAL ID：200903017489412336

有機EL素子用マスククリーニング装置、及びそれを用いた有機ELディスプレイの製造方法、並びに有機ELディスプレイの製造装置

発明者： 町山 弥 ,  竹田 芳郎 ,  金子 勝弘
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-050803
公開番号（公開出願番号）：特開2007-234236
出願日： 2006年02月27日
公開日（公表日）： 2007年09月13日
要約：

【課題】マスクの温度上昇の抑制が図れる有機EL素子のマスククリーニング技術を提供する。【解決手段】有機EL素子の有機層の形成に用いられるマスクをクリーニングする有機EL素子用マスククリーニング装置であって、マスクを収容するチャンバと、チャンバ内に設けられ、マスクに向けてエッチング用ガスを吐出するガス吐出部と、チャンバ内に設けられ、マスクから離隔して配置されるとともに当該マスクと対向する金属製の冷却部材とを備える。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

有機EL素子の有機層の形成に用いられるマスクをクリーニングする有機EL素子用マスククリーニング装置であって、 前記マスクを収容するチャンバと、 前記チャンバ内に設けられ、前記マスクに向けてエッチング用ガスを吐出するガス吐出部と、 前記チャンバ内に設けられ、前記マスクから離隔して配置されるとともに当該マスクと対向する金属製の冷却部材と、 を備えることを特徴とする有機EL素子用マスククリーニング装置。

IPC (4件)：

H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  C23C 14/04 ,  B08B 7/00

FI (4件)：

H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  C23C14/04 A ,  B08B7/00

Fターム (15件)：

3B116AA02 ,  3B116BC01 ,  3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC45 ,  3K107GG04 ,  3K107GG32 ,  3K107GG33 ,  4K029BA62 ,  4K029BB03 ,  4K029BC07 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029FA00 ,  4K029HA01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 荷電粒子露光装置におけるクリーニング方法とクリーニング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-341288   出願人：富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社