半導体製造装置等の回転導入機

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：野口繁雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-351345
公開番号（公開出願番号）：特開平7-050335
出願日： 1993年12月27日
公開日（公表日）： 1995年02月21日
要約：

【要約】【目的】磁気シールユニットで中間排気される空隙と真空容器との差圧を磁気シールユニットの1ステージの耐差圧以下に保ち、磁性流体が真空容器側へ飛散したり、真空が低下するのを防ぐ。【構成】回転導入機4は大気圧側から真空容器1内まで延びる回転軸12の外周に磁性材にてなるポールピース13が取りつけられ、ポールピース13には回転軸の周方向にリング状に形成された複数の突条が形成されている。ポールピース13と対向してポールピース13の突条を取り囲むように磁性材のヨーク14が真空容器1に固定されて配置され、ヨーク14には永久磁石10が埋め込まれている。各ギャップには磁性流体11が充填されて回転軸12の軸方向に沿った複数個のステージが形成されている。真空容器側の1段目のステージと2段目のステージの間の空隙9には中間排気系が接続され、その中間排気系は仕切りバルブ6を介して真空ポンプ7に接続されている。仕切りバルブ6と空隙9の間には、排気速度を制御する排気速度調整機構5が配置されている。

請求項（抜粋）：

大気圧側から真空容器内まで延びる回転軸と、その回転軸の周面で周方向の環状につながった形状で磁場が作用するギャップに磁性流体が充填されて、前記回転軸の軸方向に沿って複数個設置されたステージと、真空側の端部のステージとその隣りのステージとの間の空隙を真空排気手段により排気する中間排気系とを備えた回転導入機において、前記ステージ間空隙を大気圧から排気する際の前記中間排気系による前記ステージ間空隙の圧力変化の方が、前記真空容器を大気圧から排気する際の粗排気系による前記真空容器の圧力変化よりも速くなるように設計されており、かつ、前記中間排気系には排気速度を制御する排気速度調整機構が設けられていることを特徴とする半導体製造装置等の回転導入機。

IPC (2件)：

H01L 21/68 , F16D 37/02

引用特許：

審査官引用 (7件)

特公平3-009346
特開昭61-236971
特開平4-341665

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