特許
J-GLOBAL ID：200903017534654214

バリアフィルムおよびその製造方法

発明者：
盧 和敬

盧 和敬 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 野田 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-273836
公開番号（公開出願番号）：特開2009-101548
出願日： 2007年10月22日
公開日（公表日）： 2009年05月14日
要約：
【課題】酸化珪素膜をバリア層に用いた透明性、バリア性に優れたバリアフィルム、およびこのバリアフィルムを効率的に製造可能な製造方法を提供する。【解決手段】プラスチック基材1の片面または両面に、酸化珪素膜(SiOx)をバリア層2として積層してなるバリアフィルムにおいて、前記バリア層2が少なくとも2層以上の酸化珪素膜で構成されており、前記酸化珪素膜1層あたりの膜厚が10nm以上50nm以下であり、前記2層以上の酸化珪素膜で構成されているバリア層2の膜厚が20nm以上200nm以下であり、前記バリア層2中の炭素原子の割合が10at%以下であり、前記バリア層2をプラズマCVD法を用いて形成し、前記バリア層を形成するための原料ガスとして分子内に炭素を有するシラン化合物を用いる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
プラスチック基材の片面または両面に、酸化珪素膜(SiOx)をバリア層として積層してなるバリアフィルムにおいて、 前記バリア層が少なくとも2層以上の酸化珪素膜で構成されており、 前記酸化珪素膜1層あたりの膜厚が10nm以上50nm以下であり、 前記2層以上の酸化珪素膜で構成されているバリア層の膜厚が20nm以上200nm以下であり、 前記バリア層中の炭素原子の割合が10at%以下である、 ことを特徴とするバリアフィルム。
IPC (4件)：
B32B 9/00 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/02 ,  G02F 1/133
FI (4件)：
B32B9/00 A ,  H05B33/14 A ,  H05B33/02 ,  G02F1/1335
Fターム (51件)：
2H091FA50X ,  2H091FA50Z ,  2H091FB02 ,  2H091FB06 ,  2H091FC29 ,  2H091GA01 ,  2H091KA01 ,  2H091LA30 ,  2H191FA96X ,  2H191FA96Z ,  2H191FB02 ,  2H191FB12 ,  2H191FC41 ,  2H191GA01 ,  2H191KA01 ,  2H191LA40 ,  3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC23 ,  3K107DD16 ,  3K107DD17 ,  3K107DD19 ,  3K107EE48 ,  3K107EE50 ,  3K107FF04 ,  3K107FF06 ,  3K107FF14 ,  3K107FF15 ,  3K107GG00 ,  4F100AA20B ,  4F100AA20C ,  4F100AH06B ,  4F100AH06C ,  4F100AK01A ,  4F100AK42 ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100EH46C ,  4F100EH66B ,  4F100EJ38 ,  4F100JD01B ,  4F100JD01C ,  4F100JG04B ,  4F100JG04C ,  4F100JN01 ,  4F100JN18B ,  4F100JN18C ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 有機EL表示装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-296585   出願人：株式会社オートネットワーク技術研究所, 住友電装株式会社, 住友電気工業株式会社
  • ガスバリア性積層フィルム
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-234947   出願人：凸版印刷株式会社
審査官引用 (3件)

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