特許

J-GLOBAL ID：200903017555436675

周期性パターンを有する試料の欠陥検出方法

発明者： 清水 敏 ,  中西 稔
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 小西 淳美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-252187
公開番号（公開出願番号）：特開平10-078307
出願日： 1996年09月04日
公開日（公表日）： 1998年03月24日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 シヤドウマスクのような単位パターンが周期的に配列されている工業製品の、モアレの影響を受けない欠陥検出方法を提供する。【解決手段】 試料の移動方向に対して垂直な方向の、試料の線状領域を線状光源にて照明し、該線状照明から試料を経た正反射光もしくは透過光を線状領域撮影手段により撮影する工程と、該線状領域撮影手段により得られた画像データから試料の欠陥検出を行う画像データ処理工程とを有し、前記画像データ処理手段は、線状領域撮影手段により直接的ないし間接的に得られた第一の画像データに対し、微分演算処理等のフィルタ処理を施して第二の画像データを得て、得られた第二の画像データを所定のスライスレベルと比較する比較処理を施し、欠陥部を検出する。

請求項（抜粋）：

一定速度で移動する、周期性パターンを有する試料の欠陥を検出する欠陥検出方法であって、試料の移動方向に対して垂直な方向の、試料の線状領域を線状光源にて照明し、該線状照明から試料を経た正反射光もしくは透過光を線状領域撮影手段により撮影する工程と、該線状領域撮影手段により得られた画像データから試料の欠陥検出を行う画像データ処理工程とを有し、前記画像データ処理手段は、線状領域撮影手段により直接的ないし間接的に得られた第一の画像データに対し、微分演算処理等のフィルタ処理を施して第二の画像データを得て、得られた第二の画像データを所定のスライスレベルと比較する比較処理を施して、欠陥部を検出するものであり、線状領域撮影手段により撮影される周期性パターンの単位パターン間のピッチが、線状領域撮影手段の1画素ピッチの整数倍に相当するものであることを特徴とする周期性パターンを有する試料の欠陥検出方法。

IPC (3件)：

G01B 11/24 ,  G01N 21/88 ,  G01M 11/00

FI (3件)：

G01B 11/24 F ,  G01N 21/88 J ,  G01M 11/00 T

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 欠陥検査方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-242213   出願人：大日本印刷株式会社