メタルマスク及び該メタルマスクの表面膜の製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-317599
公開番号（公開出願番号）：特開2003-117452
出願日： 2001年10月16日
公開日（公表日）： 2003年04月22日
要約：

【要約】【課題】セラミック、金属等からなる超微粒子をノズルから加熱基板上に噴射し、微細、高精度な造形物を形成するガスデポジション製膜装置において使用するメタルマスクを複数回繰り返して使用可能とする。【解決手段】メタルマスク1は、ステンレス系材料からなり、フォトエッチング法で所望の開口部を有するパターン2を形成し、次に予め計画した領域を曲げ加工、あるいは突き出し加工し、曲げ部あるいは突き出し部の高さでメタルマスクと基板の隙間を一定間隔とし、その後メタルマスクの表面に表面膜処理を施す。表面膜は、一例として開口部を有するパターン2を形成する際に使用するフォトレジスト材(膜厚1〜100μm、ヤング率10×109Pa以下)が用いられる。

請求項（抜粋）：

超微粒子を基板上に噴射し微細形状の造形物を形成する装置に使用するメタルマスクにおいて、該メタルマスクの表面に前記超微粒子付着防止のための表面膜処理を施したことを特徴とするメタルマスク。

IPC (8件)：

B05B 15/04 104 , B05D 1/18 , B05D 7/14 , C23C 14/04 , C23C 24/04 , C23C 26/00 , C23C 28/00 , G03F 7/40 521

FI (8件)：

B05B 15/04 104 , B05D 1/18 , B05D 7/14 Z , C23C 14/04 A , C23C 24/04 , C23C 26/00 A , C23C 28/00 E , G03F 7/40 521

Fターム (39件)：

2H096AA24 , 2H096BA01 , 2H096BA11 , 2H096HA13 , 2H096LA30 , 4D073AA01 , 4D073AA07 , 4D073BB03 , 4D073BB06 , 4D073DB03 , 4D073DB07 , 4D073DB13 , 4D073DB31 , 4D075AB01 , 4D075BB41Z , 4D075CA02 , 4D075CA04 , 4D075CA34 , 4D075DA06 , 4D075DB01 , 4D075DC38 , 4D075EA05 , 4D075EA45 , 4D075EB38 , 4K029CA01 , 4K029DA10 , 4K029HA05 , 4K029HA07 , 4K044AA03 , 4K044BA12 , 4K044BA21 , 4K044BB01 , 4K044BB10 , 4K044BC04 , 4K044BC07 , 4K044BC14 , 4K044CA23 , 4K044CA53 , 4K044CA71

引用特許：

審査官引用 (1件)

超微粒子噴射成膜用マスク、及び該マスクと基板を装置本体に取り付ける方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-331772 出願人：株式会社リコー, 経済産業省産業技術総合研究所長

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