特許
J-GLOBAL ID:200903084147073989

超微粒子噴射成膜用マスク、及び該マスクと基板を装置本体に取り付ける方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 高野 明近 (外2名) ,  高野 明近 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-331772
公開番号(公開出願番号):特開2001-145844
出願日: 1999年11月22日
公開日(公表日): 2001年05月29日
要約:
【要約】【課題】 成膜用基板との間隙を簡便な方法で確保して、成膜装置への装着を確実かつ容易にする。【解決手段】 マスク5は、成膜用超微粒子を通過させるためのマスク開口部を有する。マスク5は、マスクプレイト50に加工を施すことにより得る。マスクプレイト50には、予備成形として切欠穴51を設ける(図(A))、そして切欠穴周囲の所定領域に折り曲げ加工を施して切欠穴折曲部52を形成する(図(B))。切欠穴折曲部52の作用により、マスク5と成膜基板との間隙を一定に保持することができる。切欠穴折曲部52は、マスク開口部57の間を縫うように配され、このような構成により、マスク5の全体にわたって成膜基板との間隙を均一に保つことができる。
請求項(抜粋):
ノズルから噴射させた超微粒子を基板上に堆積させて微細形状の造形物を形成する装置に適用される超微粒子噴射成膜用マスクにおいて、該超微粒子噴射成膜用マスクは、前記基板との間隙を一定に保持することができる形状を有していることを特徴とした超微粒子噴射成膜用マスク。
IPC (4件):
B05B 15/04 102 ,  B01J 19/00 ,  B05D 1/32 ,  B05C 17/06
FI (4件):
B05B 15/04 102 ,  B01J 19/00 K ,  B05D 1/32 E ,  B05C 17/06
Fターム (22件):
4D073AA01 ,  4D073BB06 ,  4D073DB03 ,  4D073DB07 ,  4D073DB17 ,  4D073DB21 ,  4D075AA01 ,  4D075AD11 ,  4D075CA50 ,  4D075DA06 ,  4D075DB11 ,  4D075DC21 ,  4D075EA02 ,  4D075EB05 ,  4F042AA07 ,  4F042AB03 ,  4F042DG13 ,  4G075AA27 ,  4G075BB10 ,  4G075BD09 ,  4G075CA05 ,  4G075EE40
引用特許:
審査官引用 (4件)
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