光透過用合成石英ガラス及びその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井内龍二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-216233
公開番号（公開出願番号）：特開平8-081225
出願日： 1994年09月09日
公開日（公表日）： 1996年03月26日
要約：

【要約】【構成】溶存水素分子濃度が1015個/cm3 以上であり、かつSiH基の濃度、酸素欠乏欠陥濃度の2倍及びSiCl基の濃度の合計が5.3×1016個/cm3 以下である光透過用合成石英ガラス。【効果】真空紫外域〜紫外域の高エネルギー密度の光が照射された場合でも、210nm帯欠陥び及び260nm帯欠陥が生成せず、真空紫外域〜紫外域における吸収を防止することができ、耐光性に優れた光透過用合成石英ガラスを提供することができる。従って、この合成石英ガラスは、エキシマレーザー発振装置、リソグラフィー用レーザー露光装置、レーザーCVD装置、アッシャー、エッチャー、オゾナイザー、レーザー加工装置、レーザー医療装置等のレーザー又はランプを利用した各種装置の窓材、レンズ、ミラー、プリズム、ランプ用のガス封入容器等、種々の用途に用いることができる。

請求項（抜粋）：

溶存水素分子濃度が1015個/cm3 以上であり、かつSiH基の濃度、酸素欠乏欠陥濃度の2倍及びSiCl基の濃度の合計が5.3×1016個/cm3 以下であることを特徴とする光透過用合成石英ガラス。

IPC (4件)：

C03B 8/04 , C03C 3/06 , C03C 4/00 , G02B 1/00

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開平4-021540
特開平4-195101
光透過用合成石英ガラス
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-022576 出願人：住友金属工業株式会社

審査官引用 (7件)

特開平4-021540
特開平4-021540
特開平4-195101

全件表示

前のページに戻る