特許
J-GLOBAL ID：200903017670439238

プラズマ処理装置とその評価方法及びその制御方法

発明者：
池之内 澄英

池之内 澄英 について


出願人/特許権者：
池之内 澄英

池之内 澄英 について


代理人 (1件)： 中島 司朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-207332
公開番号（公開出願番号）：特開2005-158684
出願日： 2004年07月14日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：
【課題】インピーダンス測定器やモニターや高周波電流測定器を必要としせず、しかも、プラズマ処理室の条件設定を良好に行わせることができるプラズマ処理装置とその評価方法及びその制御方法を提供する。【解決手段】高周波電源の高周波出力をインピーダンス整合器を介してプラズマ処理室に供給し、このプラズマ処理室でプラズマ加工を行う構成とする。インピーダンス整合器やプラズマ処理室のSパラメータを高周波ネットワークアナライザで測定し、測定されたSパラメータからインピーダンス整合器の電力伝送効率を求めること、これによってプラズマ処理の制御を行う。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
高周波出力を出力する高周波電源と、 前記高周波出力を入力とするインピーダンス整合器と、 このインピーダンス整合器の出力を入力とするプラズマ処理室と、 測定された前記インピーダンス整合器のSパラメータに関する情報を記憶した記憶部と、 前記Sパラメータに関する情報により前記プラズマ処理室の処理状態を制御する制御装置と、 を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H05H1/00 ,  H01L21/3065 ,  H03H7/40 ,  H05H1/46
FI (4件)：
H05H1/00 A ,  H03H7/40 ,  H05H1/46 R ,  H01L21/302 101G
Fターム (3件)：
5F004AA16 ,  5F004CA03 ,  5F004CA08
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (1件)

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