特許
J-GLOBAL ID：200903017694106094
光触媒被膜形成用表面処理剤及びこの表面処理剤を用いた光触媒被膜の形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小山 有 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-275588
公開番号（公開出願番号）：特開平11-106679
出願日： 1997年10月08日
公開日（公表日）： 1999年04月20日
要約：
【要約】【課題】 汚れが付着している既存の部材表面に、親水性を発揮する光触媒被膜を形成する。【解決手段】 コロイダルシリカを0.05重量%以上20重量%以下、カチオン性界面活性剤及び/又は両性界面活性剤を0.0001重量%以上0.1重量%以下の割合で含有する表面処理剤を、既存の部材の表面に塗布すると、既存の部材の表面にはシリカ粒子が沈着して親水化せしめられる。そこで、この親水化された表面に光触媒コーティング液を塗布することで、部材表面に対する結合力に優れた光触媒層が得られる。
請求項（抜粋）：
既存の部材の表面に光触媒被膜を形成する前に、当該表面の前処理を行うために塗布する表面処理剤であって、この表面処理剤はコロイダルシリカを0.05重量%以上20重量%以下、カチオン性界面活性剤及び/又は両性界面活性剤を0.0001重量%以上0.1重量%以下の割合で含有する水溶液からなることを特徴とする光触媒被膜形成用表面処理剤。
IPC (5件)：
C09D 5/00
, B01J 35/02
, B01J 37/02 301
, C03C 17/25
, C08J 7/06
C09D 5/00 D
, B01J 35/02 J
, B01J 37/02 301 E
, C03C 17/25
, C08J 7/06
