特許

J-GLOBAL ID：200903017719622793

ペリクル

発明者： 久保田 芳宏 ,  樫田 周 ,  川口 栄 ,  永田 愛彦 ,  浜田 裕一 ,  白崎 享
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-109952
公開番号（公開出願番号）：特開平6-301199
出願日： 1993年04月13日
公開日（公表日）： 1994年10月28日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 本発明はペリクル枠からの発塵を防止した発塵の少ないペリクルの提供を目的とするものである。【構成】 本発明のペリクルは、ペリクル枠の全面を平滑処理して発塵防止性としてなることを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

ペリクル枠の全面を平滑に処理して発塵防止性としてなることを特徴とするペリクル。

IPC (2件)：

G03F 1/14 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ペリクル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-054595   出願人：旭化成電子株式会社, 日本軽金属株式会社, 株式会社日軽技研