特許
J-GLOBAL ID:200903017727891582

顔料の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-167186
公開番号(公開出願番号):特開2004-008959
出願日: 2002年06月07日
公開日(公表日): 2004年01月15日
要約:
【課題】顔料の湿式粉砕処理に関して、不要な超微粒分の生成が少ないシャープな粒度分布を有する顔料の製造方法を提供する。【解決手段】湿式粉砕機を用いた多段の粉砕処理工程を含む顔料の製造方法であって、連続する少なくとも二つの粉砕処理工程において湿式粉砕機としてビーズを充填したビーズミルを使用し、かつ、後段の粉砕処理工程に使用するビーズの直径が前段の粉砕処理工程に使用するビーズの直径よりも大きいことを特徴とする顔料の製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
湿式粉砕機を用いた多段の粉砕処理工程を含む顔料の製造方法であって、連続する少なくとも二つの粉砕処理工程において湿式粉砕機としてビーズを充填したビーズミルを使用し、かつ、後段の粉砕処理工程に使用するビーズの直径が前段の粉砕処理工程に使用するビーズの直径よりも大きいことを特徴とする顔料の製造方法。
IPC (5件):
B02C17/20 ,  B02C17/10 ,  C09C1/00 ,  C09C1/02 ,  C09C3/04
FI (5件):
B02C17/20 ,  B02C17/10 ,  C09C1/00 ,  C09C1/02 ,  C09C3/04
Fターム (10件):
4D063FF14 ,  4D063FF35 ,  4D063FF37 ,  4D063GA10 ,  4D063GC35 ,  4J037AA10 ,  4J037DD05 ,  4J037EE29 ,  4J037EE43 ,  4J037FF01
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • 特許第2561097号
  • 特許第2790229号
  • 特公平4-033731
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