特許

J-GLOBAL ID：200903017757829415

基板裏面洗浄方法

発明者： 高田 真一 ,  浅井 正也 ,  杉本 憲司 ,  西村 譲一
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-208039
公開番号（公開出願番号）：特開平8-051064
出願日： 1994年08月08日
公開日（公表日）： 1996年02月20日
要約：

【要約】【目的】 基板裏面の洗浄時に、オリフラ部分に付着したフォトレジストも確実に洗浄除去することができる基板裏面洗浄方法を提供する。【構成】 フォトレジスト塗布の後、ステップS4では回転している基板下方から鉛直方向に対して基板外方へ傾斜した所定の角度をもって上方へ洗浄液を吐出する。この処理によって基板裏面を洗浄するとともに、基板の周縁に付着したフォトレジストを除去する。さらにオリフラ部の回転進行方向側は回転に伴う気流があたらないので、洗浄液が端面で上方に回り込む。したがってオリフラ部分のうち回転進行方向側が洗浄される。次に、ステップS5では基板回転方向をステップS4とは逆方向にして洗浄液を吐出する。これによってステップS4では洗浄されなかったオリフラ部が洗浄される。

請求項（抜粋）：

基板を回転させつつその裏面に下方から洗浄液を吐出して基板の裏面を洗浄する方法であって、基板を略水平姿勢で支持して回転させつつ、支持された基板の下方から鉛直方向に対して基板外方へ傾斜した所定の角度をもって上方へ洗浄液を吐出する第1の工程と、基板を略水平姿勢で支持して前記第1の工程と逆方向に回転させつつ、支持された基板の下方から鉛直方向に対して基板外方へ傾斜した所定の角度をもって上方へ洗浄液を吐出する第2の工程と、からなることを特徴とする基板裏面洗浄方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  B08B 3/02 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 341

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 裏面洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-170246   出願人：東京応化工業株式会社