特許
J-GLOBAL ID：200903017773620089

リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

発明者：
マルセル マティユス テオドール マリー ディーリヒス

マルセル マティユス テオドール マリー ディーリヒス について


出願人/特許権者：
エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ

エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ について


代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  吉田 裕 ,  森 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-347924
公開番号（公開出願番号）：特開2006-165552
出願日： 2005年12月01日
公開日（公表日）： 2006年06月22日
要約：
【課題】リソグラフィ投影装置でEUV放射線を用いる場合の問題の解決。【解決手段】リソグラフィ装置の照明系ILは、複数の線源10、瞳ファセット・ミラー20および複数のフィールド・ファセット・ミラー16を含み、フィールド・ファセット・ミラーの各フィールド・ファセット18が、線源10のうちの一つを瞳ファセット・ミラー20上の複数の瞳ファセット22のうちの一つに結像する。各瞳ファセットは、受けた線源像を予め定められた領域へ向けて投影ビームPBを形成する。各フィールド・ファセット18と、これと協働する瞳ファセット22との間の光路長が全フィールド/瞳ファセット対について実質的に同じである。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
放射線投影ビームを提供するための照明系と、 前記投影ビームの断面にパターンを付与するためのパターン付与手段を支持するための支持構造体と、 基板を保持するための基板テーブルと、 前記パターン付与された放射線を前記基板の目標部分に投影するための投影系とを含むリソグラフィ投影装置において、 前記照明系が、 複数の放射線源と、 瞳ファセット・ミラーと、 複数のフィールド・ファセット・ミラーとを含み、 前記フィールド・ファセット・ミラーの各々が、前記放射線源の一つと協働し、かつ、所定フィールド・ファセット・ミラーの各フィールド・ファセットが、前記協働する放射線源を前記瞳ファセット・ミラー上の複数の瞳ファセットの一つに結像するように働き、各瞳ファセットが、前記投影ビームを作るために、受けた放射線源像を予め定められた位置へ指向させるようになされており、各フィールド・ファセットとその対応する瞳ファセットとの間の光路長が全てのフィールド/瞳ファセット対について実質的に同じであり、全てのフィールド・ファセットが実質的に同じ光強度を有し、かつ、全ての瞳ファセットが実質的に同じ光強度を有するリソグラフィ投影装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (3件)：
H01L21/30 531A ,  G03F7/20 503 ,  G03F7/20 521
Fターム (9件)：
2H097CA06 ,  2H097CA15 ,  2H097LA10 ,  5F046CB02 ,  5F046CB23 ,  5F046GA14 ,  5F046GB01 ,  5F046GC03 ,  5F046GC05
引用特許：
審査官引用 (3件)

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