特許

J-GLOBAL ID：200903017790685640

薄膜試料作製法

発明者： 為我井 晴子
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-312162
公開番号（公開出願番号）：特開平10-153535
出願日： 1996年11月22日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：

【要約】【課題】 機械研磨工程で試料を薄くする時に試料の膜厚がサブミクロンオーダーで確認できない。この為、機械研磨工程の終点が不明であり、また、試料における特定微細箇所のTEM観察の場合はイオン研磨とTEM観察を交互に行ない各々の工程で設置作業の必要性があることから、試料作製の長い時間を要する。【解決手段】 試料を金属顕微鏡で観察し、試料膜厚による干渉色の変化を利用して、試料膜厚をサブミクロンオーダーで確認できる薄片化試料厚モニター7と薄膜化試料膜厚モニター8を用い、機械研磨工程4とイオン研磨工程5の際に試料厚みを監視する。

請求項（抜粋）：

観察目的部分を含む試料を薄くする機械研磨工程と、該機械研磨工程で薄くした試料をさらに薄くするイオン研磨工程とを含む薄膜試料作製法において、前記機械研磨工程で試料を薄くしている時、試料厚みを、薄膜物質を照光した時の厚みによる干渉色の変化を利用して監視することを特徴とする薄膜試料作製法。

IPC (3件)：

G01N 1/28 ,  G01B 11/06 ,  G01N 1/32

FI (3件)：

G01N 1/28 G ,  G01B 11/06 G ,  G01N 1/32 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 試料作製装置及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-001872   出願人：日本電子株式会社
• 特開昭54-028649
  
• 特開昭51-147347