特許
J-GLOBAL ID：200903017825135915
金属用研磨液、及び化学的機械的研磨方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-251635
公開番号（公開出願番号）：特開2009-087968
出願日： 2007年09月27日
公開日（公表日）： 2009年04月23日
要約：
【課題】被研磨体(ウェハ)を研磨する際に、高い研磨速度とウェハ面内における均一な研磨の両立を可能とする金属用研磨液、及びそれを用いた化学的機械的研磨方法を提供すること。【解決手段】半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨に用いられ、ペルオキソ二硫酸塩および下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とする金属用研磨液。一般式(I)中、X1およびX2はテトラゾール類、1,2,4-トリアゾール類、1,2,3-トリアゾール類、および、ベンゾトリアゾールからなる群より選択される化合物より水素原子を除いてなる一価の置換基を表し、Lは、ウレイド基、チオウレイド基、アミド基、エステル基、スルホンアミド基等から選ばれる少なくとも一つの基を含んで構成される二価の連結基を表す。 X1-L-X2 一般式(I)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨に用いられ、ペルオキソ二硫酸塩および下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とする金属用研磨液。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (3件)
-
米国特許4944836号明細書
-
特開平2-278822号公報
-
研磨用組成物
公報種別：公開公報
出願番号：特願2003-352952
出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
前のページに戻る
