特許
J-GLOBAL ID：200903017851363586
半導体材料の洗浄装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
葛野 信一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-299097
公開番号（公開出願番号）：特開平10-144650
出願日： 1996年11月11日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：
【要約】【課題】 半導体材料の洗浄装置の処理効率を向上させるとともに、ウオーターマークの発生などの問題を生じることのない半導体材料の洗浄装置を提供する。【解決手段】 処理用薬液および純水のスプレーにより半導体材料を洗浄する手段と、チャンバー内に他の処理用薬液を充填して前記半導体材料を浸漬させて処理する手段と、チャンバーの中で半導体材料が浸漬された処理用薬液または純水に乾燥用の薬液もしくは蒸気を接触させて界面層で遮断しながら処理用薬液または純水を排出する手段とを備える。
請求項（抜粋）：
半導体材料をチャンバーの中で保持し処理用薬液および/または純水によるスプレーおよび/または浸漬により前記半導体材料を洗浄する手段と、前記チャンバーの中で前記半導体材料が浸漬された前記処理用薬液または純水に乾燥用の薬液もしくは蒸気を接触させて遮断しながら前記処理用薬液または純水を排出する手段とを備えたことを特徴とする半導体材料の洗浄装置。
引用特許：
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