特許
J-GLOBAL ID：200903017938225015
磁気記録媒体の製造方法およびその製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-247502
公開番号（公開出願番号）：特開2001-067657
出願日： 1999年09月01日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
要約：
【要約】【課題】 保護膜形成時に極微小欠陥の顕在化を撲滅すると共に、磁性層と保護膜との密着強度をより高めることにより、ドロップアウトを低減し、耐食性を向上した磁気記録媒体の製造方法およびその製造装置を提供すること。【解決手段】 非磁性基材(1)上に積層した強磁性金属薄膜(2)上に、炭化水素を含有する反応ガスからプラズマCDV法により保護膜(4)を形成する磁気記録媒体(20)の製造方法であって、前記プラズマCDV法において反応ガスに正の直流電圧(V1)と負の直流電圧(V2)とを交互に印加することを特徴とする、磁気記録媒体(20)の製造方法。
請求項（抜粋）：
非磁性基材(1)上に積層した強磁性金属薄膜(2)上に、炭化水素を含有する反応ガスからプラズマCVD法により保護膜(4)を形成する磁気記録媒体(20)の製造方法であって、前記プラズマCVD法において反応ガスに正の直流電圧(V1)と負の直流電圧(V2)とを交互に印加することを特徴とする、磁気記録媒体(20)の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G11B 5/84 B
, C23C 16/503
4K030AA09
, 4K030BA28
, 4K030CA07
, 4K030CA17
, 4K030FA03
, 4K030GA14
, 4K030HA04
, 4K030JA11
, 4K030JA17
, 4K030JA18
, 4K030KA30
, 4K030LA20
, 5D112AA07
, 5D112BC05
, 5D112FA10
, 5D112FB08
