特許
J-GLOBAL ID：200903017980648392
感放射線性樹脂組成物
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福沢 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-091453
公開番号（公開出願番号）：特開平5-265213
出願日： 1992年03月18日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：
【要約】【目的】 エキシマレーザーを含む各種の放射線により高精度の微細加工が可能な高感度化学増幅型レジスト材料として有用な、新規ポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。【構成】 フェノール性水酸基含有重合体中のフェノール性水酸基をビニルオキシアルキルエーテル化した重合体、および放射線の照射下で酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。
請求項（抜粋）：
フェノール性水酸基を含有する重合体中のフェノール性水酸基の水素原子の一部または全部が、下記式(1)によって表される基で置換された構造を有する重合体、および放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。【化1】(ここで、Ra は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示し、Rb は炭素数2〜4のアルキレン基を示す。)
IPC (3件)：
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
