フォトレジスト用樹脂およびフォトレジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-286582
公開番号（公開出願番号）：特開2003-098671
出願日： 2001年09月20日
公開日（公表日）： 2003年04月04日
要約：

【要約】【課題】透明性を改良し、高感度および高解像度のフォトレジスト用樹脂およびフォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】本発明のフォトレジスト用樹脂は、メタクレゾールとホルムアルデヒドを酸触媒の存在下で反応して得られる樹脂であって、当該樹脂中の水酸基の一部または全部を酸の作用により脱離可能な基置換して得られるものである。また、本発明のフォトレジスト組成物は、上記フォトレジスト用樹脂に光酸発生剤を含むものである。

請求項（抜粋）：

ノボラック型フェノール樹脂の水酸基の一部または全部を酸の作用により脱離可能な基で保護してなり、前記ノボラック型フェノール樹脂がメタクレゾールとホルムアルデヒドを酸触媒の存在下で反応して得られるものであることを特徴とするフォトレジスト用樹脂。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 , C08G 8/10 , C08G 8/36 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 , C08G 8/10 , C08G 8/36 , H01L 21/30 502 R

Fターム (25件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC03 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025BJ00 , 2H025BJ04 , 2H025BJ05 , 2H025CB29 , 2H025CB41 , 2H025FA17 , 4J033CA02 , 4J033CA12 , 4J033CA42 , 4J033CB03 , 4J033CB18 , 4J033CC08 , 4J033CD04 , 4J033HA12 , 4J033HA28 , 4J033HB10

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平3-152544
特開平2-265950
マイクロリトグラフィックレジスト組成物、酸不安定化合物、マイクロリトグラフィックレリーフ画像形成方法及び酸感知性ポリマー組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-093265 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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