特許
J-GLOBAL ID：200903018014387368
金属膜用研磨剤
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-295235
公開番号（公開出願番号）：特開2001-115145
出願日： 1999年10月18日
公開日（公表日）： 2001年04月24日
要約：
【要約】【課題】 過酸化水素を酸化剤として使用した金属膜用研磨剤において、過酸化水素濃度の変化に対して極めて安定した高い研磨速度を維持できると共に、スクラッチを発生させること無く、且つ研磨におけるディッシングをも起こし難い、優れた金属膜用研磨剤を提供する。【解決手段】 シリカ粒子、有機酸アンモニウム、過酸化水素及び水よりなり、特定のpH及び過酸化水素濃度に調整されたシリカスラリーよりなる。
請求項（抜粋）：
シリカ粒子、有機酸アンモニウム、過酸化水素及び水よりなり、該過酸化水素の濃度が2〜8重量%であり、且つpHが9を超え、10以下であるシリカスラリーよりなることを特徴とする金属膜用研磨剤。
IPC (3件)：
C09K 3/14 550
, C09K 3/14
, H01L 21/304 622
C09K 3/14 550 D
, C09K 3/14 550 Z
, H01L 21/304 622 D
