銅系基板に有用な化学的・機械的研磨用スラリー

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-338809
公開番号（公開出願番号）：特開平11-021546
出願日： 1997年12月09日
公開日（公表日）： 1999年01月26日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】層又は膜の1つが銅又は銅含有合金を含む多層の金属層と薄膜を研磨するのに適した化学的・機械的研磨用スラリーの提供。【解決手段】膜生成剤、酸化剤(例えば尿素-過酸化水素)、錯生成剤(例えばシュウ酸アンモニウムや酒石酸)、研磨材、及び随意の界面活性剤を含む化学的・機械的研磨用スラリー。また、本化学的・機械的研磨用スラリー組成物を使用し、銅合金、チタン、窒化チタンを含む層を基材から除去する方法。

請求項（抜粋）：

尿素、及び少なくとも1種の金属酸化物研磨材を含んでなる化学的・機械的研磨用スラリーの前駆体組成物。

IPC (4件)：

C09K 3/14 550 , C09K 3/14 , C09K 13/06 101 , H01L 21/304 622

FI (5件)：

C09K 3/14 550 D , C09K 3/14 550 M , C09K 3/14 550 Z , C09K 13/06 101 , H01L 21/304 622 D

引用特許：

審査官引用 (6件)

研磨剤および研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-055290 出願人：株式会社東芝
研磨装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-031094 出願人：株式会社東芝
金属層用化学・機械研磨スラリー
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-258875 出願人：キャボットコーポレイション

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