特許
J-GLOBAL ID：200903018031076430
流動層ガスハイドレート生成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉岡 宏嗣
, 鵜沼 辰之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-301077
公開番号（公開出願番号）：特開2006-111743
出願日： 2004年10月15日
公開日（公表日）： 2006年04月27日
要約：
【課題】 流動層反応塔に循環させる原料循環ガスに同伴する微細なガスハイドレートを効果的に分離捕集する。【解決手段】 原料ガスを流動化ガスとするガスハイドレートの流動層を形成してガスハイドレートの濃度を高くする流動層反応塔1と、流動層反応塔の頂部から原料ガスを抜き出し、冷却して流動層反応塔の底部に戻す原料ガス循環装置4,5,6と、原料ガス循環装置によって頂部から抜き出される原料ガスに含まれるガスハイドレートを捕集するサイクロン7とを備えことにより、流動層反応塔に循環させる原料循環ガスに同伴する微細なガスハイドレートをサイクロンで分離捕集する。また、サイクロンで捕集しきれないより微細なガスハイドレートはNGH捕集器により効果的に捕集分離することが好ましい。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
原料ガスを流動化ガスとするガスハイドレートの流動層を形成してガスハイドレートの濃度を高くする流動層反応塔と、前記流動層反応塔の頂部から前記原料ガスを抜き出し、冷却して前記流動層反応塔の底部に戻す原料ガス循環装置と、該原料ガス循環装置によって前記頂部から抜き出される原料ガスに含まれるガスハイドレートを捕集するサイクロンとを備えてなる流動層ガスハイドレート生成装置。
IPC (5件)：
C10L 3/06
, C07B 61/00
, C07C 5/00
, C07C 7/20
, C07C 9/04
C10L3/00 A
, C07B61/00
, C07C5/00
, C07C7/20
, C07C9/04
4H006AA02
, 4H006AA04
, 4H006AC93
, 4H006AD10
