特許
J-GLOBAL ID：200903066636956941
ガスハイドレートの生成方法および生成装置、ならびにガスハイドレートの生成システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤田 考晴 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-246535
公開番号（公開出願番号）：特開2003-055675
出願日： 2001年08月15日
公開日（公表日）： 2003年02月26日
要約：
【要約】【課題】 単純な構造を採用しながらも原料ガスと水との水和反応を活発に行わせてガスハイドレートの生成効率を向上させる。【解決手段】 原料ガスと水とを反応容器20の内部で反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレートの生成方法において、反応容器20内部の水相Lから水を抽出し、この水を反応容器20内部の気相G中に噴射し、噴射される水を駆動媒体として気相G中の原料ガスを駆動して水との接触を促す。
請求項（抜粋）：
原料ガスと水とを反応容器の内部で反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレートの生成方法において、前記反応容器内部の水相から水を抽出し、該水を前記反応容器内部の気相中に噴射し、該噴射される水を駆動媒体として前記気相中の原料ガスを駆動して前記水との接触を促すことを特徴とするガスハイドレートの生成方法。
IPC (6件)：
C10L 3/06
, C07B 61/00
, C07B 63/02
, C07C 5/00
, C07C 7/20
, C07C 9/04
C07B 61/00 C
, C07B 63/02 B
, C07C 5/00
, C07C 7/20
, C07C 9/04
, C10L 3/00 A
4H006AA02
, 4H006AA04
, 4H006AD33
, 4H006BB31
, 4H006BC52
, 4H006BD21
