特許
J-GLOBAL ID：200903018059090153

位相差測定方法及び位相シフトマスク製造方法

発明者：
岩崎 治夫

岩崎 治夫 について

, 
石田 伸二

石田 伸二 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 高橋 詔男 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-300158
公開番号（公開出願番号）：特開2002-107907
出願日： 2000年09月29日
公開日（公表日）： 2002年04月10日
要約：
【要約】【課題】レベンソン位相シフトマスクの製造途中にレジスト1を剥離せずに、走査型原子間力顕微鏡(AFM)を用いて簡便に位相差を測定する方法を提供し、この位相差測定方法を用いてレベンソン位相シフトマスクの製造プロセスを大幅に短縮することが可能になる位相シフトマスク製造方法を提供する。【解決手段】走査型原子間力顕微鏡によりシフター部6の段差深さを測定することにより位相シフトマスクの位相差を測定し、位相シフトマスクを製造する。
請求項（抜粋）：
光の位相を変化させる位相シフターが形成された位相シフトマスクの位相差測定方法において、走査型原子間力顕微鏡によりシフター部の段差深さを測定する手段と、前記走査型原子間力顕微鏡により測定された前記段差深さと、位相差測定装置により測定された位相差との関係を用いて、前記位相差を求める手段とにより、前記位相シフトマスクの前記位相差を測定することを特徴とする位相差測定方法。
IPC (3件)：
G03F 1/08 ,  G01N 13/16 ,  G01B 21/18
FI (4件)：
G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 S ,  G01N 13/16 A ,  G01B 21/18
Fターム (11件)：
2F069AA43 ,  2F069AA60 ,  2F069BB40 ,  2F069GG07 ,  2F069GG20 ,  2F069GG62 ,  2F069HH30 ,  2F069LL03 ,  2H095BB03 ,  2H095BD01 ,  2H095BD23
引用特許：
審査官引用 (5件)
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