フォトマスクの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：韮澤弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-239765
公開番号（公開出願番号）：特開2000-039700
出願日： 1998年08月26日
公開日（公表日）： 2000年02月08日
要約：

【要約】【課題】基板彫り込み型の位相シフトマスクの所定の位相差を設ける透明領域間の位相差を正確に設定することができ製造方法。【解決手段】被エッチング透明基板11と遮光パターン12とレジストパターン14aから構成される部材のエッチングにおいて、レジストパターン14aの開口部の被エッチング透明基板11部分を目的の深さまでエッチングする以前にエッチングを中断し、エッチング深さを計測し、その計測結果に基づいてエッチング不足量を算出し、その計算結果に基づいてエッチング不足量を再エッチング16bするフォトマスクの製造方法。

請求項（抜粋）：

被エッチング透明基板とレジストパターン、又は、被エッチング透明基板と遮光パターンとレジストパターンから構成される部材のエッチングにおいて、前記レジストパターンの開口部の被エッチング透明基板部分を目的の深さまでエッチングする以前にエッチングを中断し、エッチング深さを計測し、その計測結果に基づいてエッチング不足量を算出し、その計算結果に基づいてエッチング不足量を再エッチングすることを特徴とするフォトマスクの製造方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/08 A , H01L 21/30 502 P

Fターム (9件)：

2H095BB03 , 2H095BB08 , 2H095BB28 , 2H095BB31 , 2H095BC27 , 2H095BC28 , 2H095BD03 , 2H095BD18 , 2H095BD29

引用特許：

審査官引用 (6件)

フォトマスクの作成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-061381 出願人：株式会社東芝
位相シフトマスクおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-006742 出願人：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
位相シフトマスクの製造方法および製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-175298 出願人：株式会社日立製作所

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