特許

J-GLOBAL ID：200903018069271415

ホスファゼン組成物とその製造方法

発明者： 福岡 直彦 ,  保田 平之介 ,  西松 雅之 ,  山下 智之 ,  大前 吉則
出願人/特許権者： ケミプロ化成株式会社
代理人 (1件)： 友松 英爾 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-174704
公開番号（公開出願番号）：特開2001-002685
出願日： 1999年06月21日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
要約：

【要約】【課題】 ハロゲンを含まないホスファゼン組成物とその製造方法の提供。【解決手段】 下記一般式(4)【化1】(式中、Arはアリール基、mは3〜10の整数である。)で示される環状ホスファゼンと下記一般式(5)【化2】(式中、Arはアリール基、nは1〜7の整数である。)で示される鎖状ホスファゼンよりなり、その全ハロゲン含有量が0.05重量%以下であることを特徴とするホスファゼン組成物とその製造方法。

請求項（抜粋）：

下記一般式(4)【化1】(式中、Arはアリール基、mは3〜10の整数である。)で示される環状ホスファゼンと下記一般式(5)【化2】(式中、Arはアリール基、nは1〜7の整数である。)で示される鎖状ホスファゼンよりなり、その全ハロゲン含有量が0.05重量%以下であることを特徴とするホスファゼン組成物。

IPC (7件)：

C07F 9/24 ,  C07F 9/06 ,  C07F 9/6581 ,  C07F 9/6593 ,  C08G 79/02 ,  C08K 5/5399 ,  C08L 85/02

FI (7件)：

C07F 9/24 Z ,  C07F 9/06 ,  C07F 9/6581 ,  C07F 9/6593 ,  C08G 79/02 ,  C08K 5/5399 ,  C08L 85/02

Fターム (15件)：

4H050AB80 ,  4H050BB18 ,  4H050BB19 ,  4H050BB20 ,  4H050WA15 ,  4H050WA23 ,  4J002CQ001 ,  4J002CQ002 ,  4J002EW156 ,  4J030CA00 ,  4J030CA01 ,  4J030CB48 ,  4J030CB52 ,  4J030CB55 ,  4J030CF02

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭58-219190
  
• 特表平2-502731
  
• ホスファゼン系化合物、それを用いた防炎加工剤および防炎加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-111296   出願人：日華化学株式会社, 大塚化学株式会社