特許
J-GLOBAL ID:200903018084738079
散気システムおよび散気方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
藤本 昇
, 薬丸 誠一
, 中谷 寛昭
, 岩田 徳哉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-306705
公開番号(公開出願番号):特開2008-119609
出願日: 2006年11月13日
公開日(公表日): 2008年05月29日
要約:
【課題】少ない動力エネルギー、低い剪断力で気体を曝気槽に供給できる、散気システム、及び散気方法を提供する。【解決手段】導入された被処理排水を活性汚泥で処理するための曝気槽と、曝気槽内の被処理排水の液面よりも下方から散気させるための気体供給部を有する第1の散気装置と、第1の散気装置よりも下方から散気させるための気体供給部を有する第2の散気装置と、第1の散気装置から散気される第1の気泡の領域と第2の散気装置から散気される第2の気泡の領域とを循環可能に隔離するための隔離手段とを備え、第2の散気装置がらの気泡が、第1の散気装置からのの気泡よりも大きい気泡発生時直径を有し、第1の散気装置と、第2の散気装置と、隔離手段とが、第1の気泡の上昇力と第2の気泡の上昇力との差により、曝気槽内に循環流が発生するように配置されていることを特徴とする散気システム及び散気方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
導入された被処理排水を活性汚泥で処理するための曝気槽と、
該曝気槽内の被処理排水と活性汚泥とを含む液相の液面よりも下方から散気させるための、気体供給部を有する第1の散気装置と、
該曝気槽内の第1の散気装置よりも下方から散気させるための、気体供給部を有する第2の散気装置と、
該曝気槽内に配置され、かつ該第1の散気装置から散気される第1の気泡の領域と該第2の散気装置から散気される第2の気泡の領域とを循環可能に隔離するための隔離手段と
を備えてなり、
該第2の散気装置が、第1の散気装置により散気される第1の気泡よりも大きい気泡発生時直径を有する第2の気泡を発生するものであり、
該第1の散気装置と、該第2の散気装置と、該隔離手段とが、該第1の気泡の上昇力と該第2の気泡の上昇力との差により、該曝気槽内に循環流が発生するように配置されていることを特徴とする、散気システム。
IPC (3件):
C02F 3/20
, C02F 3/26
, B01F 3/04
FI (3件):
C02F3/20 A
, C02F3/26
, B01F3/04 A
Fターム (11件):
4D029AA09
, 4D029AB07
, 4D029BB10
, 4D029CC03
, 4D029CC06
, 4D029CC07
, 4G035AA01
, 4G035AB07
, 4G035AB08
, 4G035AC15
, 4G035AE19
引用特許:
出願人引用 (2件)
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曝気撹拌装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-248973
出願人:アタカ工業株式会社
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特許第3160057号公報
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