特許
J-GLOBAL ID：200903028429411391

曝気撹拌装置

発明者：
一瀬 正秋

一瀬 正秋 について

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河窪 義男

河窪 義男 について

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中田 康介

中田 康介 について


出願人/特許権者：
アタカ工業株式会社

アタカ工業株式会社 について


代理人 (1件)： 岸本 瑛之助 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-248973
公開番号（公開出願番号）：特開2003-053371
出願日： 2001年08月20日
公開日（公表日）： 2003年02月25日
要約：
【要約】【課題】既存の空気供給手段を最大限に利用し、かつドラフトチューブ式機械曝気撹拌装置の特徴を生かした装置を提供する。【解決手段】曝気撹拌装置は、処理槽1 内に垂直に配置されたドラフトチューブ2 と、ドラフトチューブ内に位置し、かつモーター3 により駆動軸4 を介して回転される撹拌手段5 とを具備する。撹拌手段5 は、その撹拌羽根6 の回転によりドラフトチューブ内に下降流を発生させて同チューブ下端からその外部を経て上端へ液を循環させる。撹拌手段の撹拌羽根の上流側に散気手段として散気板7 が設けられている。散気手段と撹拌羽根の間に気泡ガイドが設けられていることが好ましい。散気手段は、好ましくは100μm以下の微細気泡を発生させる散気板または散気管である。このような散気手段としてアタカ工業社製の「ディスクディフューザー」が好ましい。
請求項（抜粋）：
処理槽内に垂直に配置されたドラフトチューブと、ドラフトチューブ内に位置し、かつモーターにより駆動軸を介して回転される撹拌手段とを具備し、撹拌手段が、その撹拌羽根の回転によりドラフトチューブ内に下降流を発生させて同チューブ下端からその外部を経て上端へ液を循環させる撹拌装置において、撹拌手段の撹拌羽根の上流側に散気手段が設けられていることを特徴とする曝気撹拌装置。
IPC (5件)：
C02F 3/20 ZAB ,  C02F 3/20 ,  B01F 3/04 ,  B01F 7/16 ,  C02F 3/12
FI (5件)：
C02F 3/20 ZAB A ,  C02F 3/20 C ,  B01F 3/04 A ,  B01F 7/16 K ,  C02F 3/12 A
Fターム (12件)：
4D028BC24 ,  4D028BC26 ,  4D028BD06 ,  4D028BD10 ,  4D029AA09 ,  4D029AB06 ,  4G035AB25 ,  4G078AA13 ,  4G078AB20 ,  4G078BA05 ,  4G078CA06 ,  4G078DA19
引用特許：
審査官引用 (20件)
  • 特開昭56-097528
  • 曝気装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-254992   出願人：株式会社クボタ
  • 曝気装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-054825   出願人：株式会社クボタ
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