特許
J-GLOBAL ID:200903018092108700

担持触媒処理

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 河備 健二
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-563721
公開番号(公開出願番号):特表2005-525922
出願日: 2002年12月27日
公開日(公表日): 2005年09月02日
要約:
触媒の炭化水素含有量を低減する(好ましくは、高温で水素含有ガスと接触させることによって)工程;非酸化性雰囲気下で、アンモニウム塩およびアルキルアンモニウム塩のうち少なくとも一種の溶液により含浸する工程であって、前記溶液は、場合により1リットルあたり5モル以下のアンモニアと組み合わされ、前記触媒が、触媒の計算細孔体積の少なくとも約10%に等しい体積の前記溶液を吸収する点まで含浸される工程;前記含浸溶液の存在下で、ガス状酸化剤により酸化する工程;および高温で、水素含有ガスにより還元して、触媒を活性化する工程を含む、一酸化炭素を水素添加して炭化水素混合物を生成するための担持金属触媒の活性を再生させる方法が提供される。場合により、触媒を酸化工程の後で焼成し、活性化工程の後で不動態化させる。
請求項(抜粋):
Co、Ni、Cu、Ru、Rh、Re、Pd、Pt、OsおよびIrよりなる群から選択される1つ以上の構成要素を含む使用済み担持触媒を処理する方法であって、 a)炭化水素含有量を低減する工程; b)非酸化性雰囲気下で、アンモニウム塩およびアルキルアンモニウム塩のうち少なくとも一種の溶液により含浸する工程であって、前記溶液は、場合により1リットルあたり5モル以下のアンモニアと組み合わされる工程; c)前記含浸溶液の存在下で、ガス状酸化剤により酸化する工程;および d)高温で、水素含有ガスにより還元し、活性触媒を形成する工程 を含むことを特徴とする使用済み担持触媒を処理する方法。
IPC (9件):
B01J23/94 ,  B01J38/06 ,  B01J38/10 ,  B01J38/12 ,  B01J38/56 ,  B01J38/66 ,  C07C1/04 ,  C07C7/04 ,  C07C9/14
FI (9件):
B01J23/94 Z ,  B01J38/06 ,  B01J38/10 Z ,  B01J38/12 Z ,  B01J38/56 ,  B01J38/66 ,  C07C1/04 ,  C07C7/04 ,  C07C9/14
Fターム (45件):
4G069AA03 ,  4G069AA10 ,  4G069BA04B ,  4G069BB01C ,  4G069BB12C ,  4G069BB16C ,  4G069BC67A ,  4G069BC67B ,  4G069BE17C ,  4G069CC23 ,  4G069GA03 ,  4G069GA05 ,  4G069GA06 ,  4G069GA10 ,  4G069GA12 ,  4G069GA16 ,  4G169AA03 ,  4G169AA10 ,  4G169BA04B ,  4G169BB01C ,  4G169BB12C ,  4G169BB16C ,  4G169BC67A ,  4G169BC67B ,  4G169BE17C ,  4G169CC23 ,  4G169GA03 ,  4G169GA05 ,  4G169GA06 ,  4G169GA10 ,  4G169GA12 ,  4G169GA16 ,  4H006AA02 ,  4H006AC29 ,  4H006AD11 ,  4H006BA05 ,  4H006BA16 ,  4H006BA18 ,  4H006BA22 ,  4H006BA55 ,  4H006BA84 ,  4H006BE20 ,  4H006BE40 ,  4H039CA19 ,  4H039CL35
引用特許:
出願人引用 (12件)
  • 米国特許第5,292,705号明細書
  • 米国特許第6,201,030号明細書
  • 米国特許第4,888,131号明細書
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審査官引用 (4件)
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