特許

J-GLOBAL ID：200903018146993267

セフェム-及びイソオキサセフェム誘導体の製造

発明者： トーマス・オーバーハウザー
出願人/特許権者： エフ・ホフマン-ラ ロシユ アーゲー
代理人 (1件)： 津国 肇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-151131
公開番号（公開出願番号）：特開平10-059978
出願日： 1997年06月09日
公開日（公表日）： 1998年03月03日
要約：

【要約】【課題】 式(I)【化16】〔式中、R1 はトリチル、アセチルなどであり;R2 は水素、ヒドロキシ、置換又は非置換の低級アルキル、シクロアルキル、低級アルコキシなどであり;Yが-S-であり、Zは-CH2 -であるか;又はYが-CH2 -であり、Zは-O-である〕で示される化合物を製造する方法であって、式(II)【化17】の化合物を、式(III)【化18】(式中、R3 は低級アルキルであり;R1 、R2 、Y、Zは上記で定義したとおりである)の化合物でアシル化する方法及び式(III)の化合物。

請求項（抜粋）：

式(I)【化1】〔式中、R1 はトリチル、アセチル、テトラヒドロピラニル又はシクロペンチルであり;R2 は水素、ヒドロキシ、低級アルキル、シクロアルキル、低級アルコキシ、低級アルケニル、低級アルキニル、アリール、アリールオキシ、アリール-低級アルキル、アリール-低級アルコキシ又はヘテロシクリルもしくはヘテロシクリル-低級アルキルであり;該低級アルキル、シクロアルキル、低級アルコキシ、低級アルケニル、シクロアルケニル、低級アルキニル、アリール-低級アルキル、アリール、アリールオキシ、アリール-低級アルコキシ及び該ヘテロシクリル部分は、置換されていないか、又はカルボキシ、アミノ、ニトロ、シアノ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、-CONR21R22、-N(R22)COOR23、R22CO-、R22OCO-又はR22COO-(式中、R21は水素、低級アルキル又はシクロアルキルであり;R22は水素又は低級アルキルであり;R23は低級アルキル、低級アルケニル又はカルボン酸保護基である)から選択される少なくとも1つの基で置換されており;Yが-S-であって、かつZは-CH2 -であるか;又はYが-CH2 -であって、かつZは-O-である〕で示される化合物の製造方法であって、式(II)【化2】で示される化合物を、式(III)【化3】(式中、R3 は低級アルキルであり;そしてR1 、R2 、Y及びZは上記で定義したとおりである)で示される活性化カルボン酸誘導体でアシル化することにより製造する方法。

IPC (5件)：

C07D501/56 ,  C07D277/40 ,  C07D505/00 ,  C07D501/24 ,  C07F 9/6539

FI (5件)：

C07D501/56 ,  C07D277/40 ,  C07D501/24 ,  C07F 9/6539 ,  C07D498/04 112 E

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 新規なチア(ジア)ゾル酢酸の反応性チオホスフェート誘導体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-072044   出願人：ラッキーリミテッド
• セファロスポリン誘導体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-101558   出願人：エフ・ホフマン-ラロシユアーゲー