リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-375813
公開番号（公開出願番号）：特開2003-209053
出願日： 2002年12月26日
公開日（公表日）： 2003年07月25日
要約：

【要約】【課題】本発明は、極紫外線の放電プラズマソースあるいはレーザー生成プラズマソースとの使用に適し、かつ、ソース内のあるいはソース付近のガスが、装置のさらに別の部分に入り込むのを制限するリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】リソグラフィ装置は、プラズマソースを含み、かつ、装置の投影ビームの波長での放射線を高吸収するソースガスもまた含んだ第一スペースを備えている。装置の投影ビームの波長において低吸収のバッファガスを含んだ第二スペースにより、リソグラフィシステムの残りの部分にこのガスが入るのを制限する。バッファガスの圧力はソースガスの圧力よりも低いかもしくは同等である。

請求項（抜粋）：

- 放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、- 所望するパターンに従って投影ビームをパターン化するパターニング手段を支持する支持構造と、- 基板を保持する基板テーブルと、- パターン化されたビームを基板の目標部分に投影する投影システムとにより構成されており、また、- 極紫外線のビームを作り出す、上記放射線システムの一部分であるプラズマソースと、- (i)該プラズマソースと、(ii)該プラズマソースからのソースガスとを含んだ第一スペースと、- ビームの開口を有するウォールにより該第一スペースと分かれた、該ソースガスとは異なるバッファガスを含んだ第二スペースとから成り、ここで該第二スペースの圧力は該第一スペースの圧力よりも低いかもしくはこれと同等であり、また、該投影ビームは該第一スペースと該第二スペースとを通過することを特徴とするリソグラフィ投影装置

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 503

FI (2件)：

G03F 7/20 503 , H01L 21/30 531 A

Fターム (5件)：

2H097CA15 , 5F046GA03 , 5F046GA09 , 5F046GA12 , 5F046GC03

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭59-029331
特開昭58-225636
特開昭63-292553

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